氢渗透传感器催化镀层的性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-27页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·氢在金属中的行为 | 第10-17页 |
| ·氢的来源 | 第10-12页 |
| ·氢的析出与进入 | 第12-14页 |
| ·电化学方法充氢 | 第14-15页 |
| ·氢渗透过程 | 第15-16页 |
| ·钢中的氢滞 | 第16-17页 |
| ·氢的扩散过程 | 第17-20页 |
| ·数学理论的基本前提 | 第17-18页 |
| ·氢渗透数学理论 | 第18-19页 |
| ·表观扩散系数与氢陷阱 | 第19-20页 |
| ·氢渗透检测方法的研究进展 | 第20-24页 |
| ·压力型氢探头(PHP) | 第20-21页 |
| ·真空型氢探头(VHP) | 第21-22页 |
| ·电化学氢探头(ECHP) | 第22-24页 |
| ·电催化镀层的研究进展 | 第24-25页 |
| ·本论文的研究意义与研究内容 | 第25-27页 |
| ·本论文的研究意义 | 第25-26页 |
| ·主要研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 氢渗透测量工作原理与实验方法 | 第27-32页 |
| ·氢渗透测量传感器的工作原理 | 第27-29页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·实验过程 | 第30页 |
| ·检测方法 | 第30-32页 |
| 第3章 氢渗透催化镀钯层的性能研究 | 第32-42页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·集氢面镀钯工艺的研究 | 第32-37页 |
| ·集氢面镀钯的作用 | 第32-34页 |
| ·集氢面镀钯工艺 | 第34-37页 |
| ·催化镀钯层的电化学行为 | 第37-38页 |
| ·催化镀钯层的稳定性分析 | 第38页 |
| ·典型渗氢曲线与扩散系数的近似计算 | 第38-40页 |
| ·典型渗氢曲线 | 第38-39页 |
| ·扩散系数的近似计算 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 第4章 氢渗透催化镀镍层的性能研究 | 第42-48页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·三镍电极系统 | 第42-43页 |
| ·催化层镀镍工艺研究 | 第43-46页 |
| ·电镀时间对背景电流的影响 | 第44-45页 |
| ·电镀时间对稳态渗氢电流的影响 | 第45-46页 |
| ·镀镍层施加的氧化电势范围 | 第46-47页 |
| ·小结 | 第47-48页 |
| 第5章 钯、镍催化镀层的性能对比研究 | 第48-55页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·不同催化镀层的催化活性 | 第48-50页 |
| ·不同表面基底的背景电流 | 第48-49页 |
| ·不同催化镀层的渗氢电流 | 第49-50页 |
| ·不同催化镀层的电化学行为 | 第50-52页 |
| ·不同镀层的最佳氧化电势 | 第50-51页 |
| ·不同镀层渗氢氧化电势范围 | 第51-52页 |
| ·催化镀镍层最适宜原子氢氧化电势 | 第52-53页 |
| ·金属钯和镍对原子氢氧化的电催化机理浅析 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-64页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
