反应磁控溅射金属/TiN多层膜及金属掺杂TiN薄膜的制备与特性
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-28页 |
| ·TiN薄膜概述 | 第17-20页 |
| ·TiN薄膜的结构与特性 | 第17-18页 |
| ·TiN薄膜研究进展的简介 | 第18-20页 |
| ·金属/TiN薄膜和金属掺杂TiN薄膜的概述 | 第20-23页 |
| ·金属/TiN薄膜和金属掺杂TiN薄膜的结构 | 第20-21页 |
| ·金属/TiN薄膜和金属掺杂TiN薄膜的研究现状 | 第21-23页 |
| ·TiN薄膜的制备与表征方法 | 第23-26页 |
| ·制备方法 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第24页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
| ·Raman光谱测试 | 第25页 |
| ·相关薄膜的机械性能测试 | 第25-26页 |
| ·相关薄膜的光学特性测试 | 第26页 |
| ·研究意义与主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 TiN薄膜的制备及其特性 | 第28-41页 |
| ·TiN薄膜的制备及其结构 | 第28-36页 |
| ·衬底温度对TiN薄膜制备及其结构的影响 | 第29-30页 |
| ·溅射电流对TiN薄膜制备及其结构的影响 | 第30-32页 |
| ·氩氮比率对TiN薄膜制备及其结构的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射压强对TiN薄膜制备及其结构的影响 | 第33-35页 |
| ·溅射时间对TiN薄膜制备及其结构的影响 | 第35-36页 |
| ·TiN薄膜的Raman光谱和表面形貌 | 第36-39页 |
| ·TiN薄膜的Raman光谱分析 | 第37-38页 |
| ·TiN薄膜的表面形貌分析 | 第38-39页 |
| ·TiN薄膜的机械性能与光学特性 | 第39-41页 |
| ·TiN薄膜的机械性能 | 第39-40页 |
| ·TiN薄膜的光学特性 | 第40-41页 |
| 第三章 金属/TiN薄膜的制备及其特性 | 第41-58页 |
| ·不同金属缓冲层的制备 | 第41页 |
| ·金属/TiN薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·Al/TiN薄膜的特性 | 第42-47页 |
| ·Al/TiN薄膜的XRD和Raman光谱分析 | 第42-44页 |
| ·Al/TiN薄膜的表面形貌分析 | 第44-45页 |
| ·Al/TiN薄膜的机械性能 | 第45-46页 |
| ·Al/TiN薄膜的光学特性 | 第46-47页 |
| ·Ti/TiN薄膜的特性 | 第47-52页 |
| ·Ti/TiN薄膜的XRD和Raman光谱分析 | 第47-49页 |
| ·Ti/TiN薄膜的表面形貌分析 | 第49-50页 |
| ·Ti/TiN薄膜的机械性能 | 第50-51页 |
| ·Ti/TiN薄膜的光学特性 | 第51-52页 |
| ·Zn/TiN薄膜的特性 | 第52-58页 |
| ·Zn/TiN薄膜的XRD和Raman光谱分析 | 第52-54页 |
| ·Zn/TiN薄膜的表面形貌分析 | 第54-55页 |
| ·Zn/TiN薄膜的机械性能 | 第55-56页 |
| ·Zn/TiN薄膜的光学特性 | 第56-58页 |
| 第四章 Al掺杂TiN薄膜的制备及其特性 | 第58-63页 |
| ·制备Al掺杂TiN薄膜的过程 | 第58-59页 |
| ·Al掺杂TiN薄膜的特性 | 第59-63页 |
| ·Al掺杂TiN薄膜的XRD和Raman光谱分析 | 第59-60页 |
| ·Al掺杂TiN薄膜的表面形貌分析 | 第60-61页 |
| ·Al掺杂TiN薄膜的光学特性 | 第61-63页 |
| 第五章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附录A：攻读硕士期间发表的文章 | 第70-71页 |
