基于数字微镜的彩虹全息微雕技术研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·微雕艺术的研究现状 | 第8-10页 |
| ·本文研究目的 | 第10页 |
| ·彩虹全息术的发展 | 第10-12页 |
| ·数字微镜（DMD）装置在全息领域内的应用 | 第12-13页 |
| ·本论文的主要研究工作及内容安排 | 第13-15页 |
| 第2章 数字微镜彩虹全息微雕原理 | 第15-26页 |
| ·数字微镜器件 | 第15-18页 |
| ·数字微镜器件的构造 | 第15-16页 |
| ·数字微镜器件的工作原理 | 第16-18页 |
| ·数字微镜器件的衍射特性 | 第18-20页 |
| ·数字微镜器件的二维光栅结构 | 第18-19页 |
| ·数字微镜器件的夫琅禾费衍射 | 第19-20页 |
| ·数字彩虹全息微雕技术的记录原理 | 第20-26页 |
| ·相干光的彩虹全息记录原理 | 第20-22页 |
| ·非相干光的数字彩虹全息记录原理 | 第22-26页 |
| 第3章 数字微镜彩虹全息微雕制作系统 | 第26-33页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·基于频谱相干的数字彩虹全息微雕光路系统 | 第26-29页 |
| ·光路系统的曝光光源 | 第26-28页 |
| ·记录光路系统的示意图 | 第28-29页 |
| ·数字光刻彩虹全息微雕光路系统 | 第29页 |
| ·全息微雕光路系统记录介质 | 第29-31页 |
| ·振幅型记录介质 | 第29-30页 |
| ·位相型记录介质 | 第30-31页 |
| ·基底介质 | 第31页 |
| ·图像制作软件 | 第31-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第4章 数字彩虹全息微雕制作工艺 | 第33-59页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·全息干板基底数字彩虹全息微雕制作工艺 | 第33-35页 |
| ·数字彩虹微雕全息的记录 | 第33-34页 |
| ·曝光后显影、漂白处理 | 第34-35页 |
| ·光致抗蚀剂上进行数字彩虹微雕工艺 | 第35-42页 |
| ·基底片表面预处理 | 第36-37页 |
| ·涂胶 | 第37-38页 |
| ·前烘 | 第38页 |
| ·数字彩虹全息微雕图的曝光记录 | 第38-41页 |
| ·曝光后烘和显影 | 第41-42页 |
| ·坚膜 | 第42页 |
| ·全息记录介质彩虹微雕工艺的实验结果及分析 | 第42-50页 |
| ·实验结果 | 第42-45页 |
| ·实验分析与工艺参数 | 第45-50页 |
| ·在金属和非金属材料上的数字彩虹全息微雕工艺 | 第50-58页 |
| ·在不锈钢材料上的数字彩虹全息微雕工艺 | 第50-54页 |
| ·在玻璃上的数字彩虹全息微雕工艺 | 第54-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第5章 总结和展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
