| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-33页 |
| ·CMR材料 | 第8-16页 |
| ·CMR材料的物理机制 | 第8-10页 |
| ·超巨磁阻材料的应用 | 第10页 |
| ·激光感生电压(LITV)效应简介 | 第10-11页 |
| ·各向异性Seebeck效应(温差热电势效应) | 第11-12页 |
| ·LITV效应原理及公式推导 | 第12-14页 |
| ·薄膜参量对LITV的影响 | 第14-16页 |
| ·薄膜光学的原理 | 第16-26页 |
| ·薄膜光学的发展历史 | 第16-17页 |
| ·薄膜光学的电磁理论基础 | 第17-19页 |
| ·光学薄膜设计方法 | 第19-21页 |
| ·增透膜 | 第21-25页 |
| ·增透波长与薄膜厚度之间的关系 | 第25-26页 |
| ·镀膜方法 | 第26-31页 |
| ·真空蒸镀法 | 第26-27页 |
| ·溅射镀膜 | 第27页 |
| ·PLD制备薄膜 | 第27-31页 |
| ·离子镀 | 第31页 |
| ·论文的选题和意义 | 第31-33页 |
| 第二章 氟化镁多晶靶材的制备 | 第33-45页 |
| ·氟化镁 | 第33-34页 |
| ·晶体结构 | 第33-34页 |
| ·光学性质 | 第34页 |
| ·多晶与单晶MgF_2材料在镀膜中的比较 | 第34-35页 |
| ·MgF_2靶材的制备 | 第35-36页 |
| ·MgF_2粉末的成型 | 第35页 |
| ·MgF_2靶材的烧结 | 第35-36页 |
| ·实验与结果 | 第36-43页 |
| ·空气中烧结 | 第36-38页 |
| ·在MgF_2粉末中埋烧 | 第38-39页 |
| ·简易烧结方法 | 第39-40页 |
| ·真空炉中烧结MgF_2块靶材 | 第40-41页 |
| ·氢气Ar中保护烧结 | 第41-43页 |
| ·讨论与分析 | 第43页 |
| ·MgF_2氧化温度的测定 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第三章 氟化镁增透膜的制备 | 第45-61页 |
| ·常见的透紫外保护膜或增透膜材料 | 第45-46页 |
| ·真空蒸镀MgF_2薄膜 | 第46-47页 |
| ·实验装置图 | 第46页 |
| ·炉子温度分布曲线图 | 第46-47页 |
| ·镀膜程序 | 第47页 |
| ·硅片上镀MgF_2膜 | 第47页 |
| ·MgF_2膜的表征 | 第47-53页 |
| ·XRD物相表征 | 第47-49页 |
| ·拉曼表征 | 第49-50页 |
| ·SEM形貌表征 | 第50页 |
| ·XPS成分表征 | 第50-52页 |
| ·电子探针膜厚表征 | 第52-53页 |
| ·三种衬底上镀MgF_2增透膜 | 第53-60页 |
| ·在钛酸铭衬底(STO)上镀MgF_2增透膜 | 第53-54页 |
| ·在单晶硅上镀MgF_2增透膜 | 第54-55页 |
| ·在多层膜上镀MgF_2增透膜 | 第55-59页 |
| ·结果与分析 | 第59-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 第四章 多层膜的LITV效应 | 第61-70页 |
| ·连续激光做光源的LITV信号测量系统 | 第61-63页 |
| ·YBCO/LPMO和YBCO/LSCO多层膜制备 | 第63页 |
| ·多层膜的激光感生电压 | 第63-69页 |
| ·衬底倾角对(YBCO_M/LPMO_N)_L多层膜的LITV信号的影响 | 第64-67页 |
| ·膜层周期对(YBCO/LPMO)_L多层膜的LITV信号的影响 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| 第五章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 附录A(硕士期间发表的主要论文) | 第76页 |
