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高电荷态Ar17+离子与金属表面相互作用过程中X射线发射的研究

摘要第1-5页
Abstract第5-8页
第一章 引言第8-22页
   ·基本过程和研究意义第8-11页
   ·研究现状第11-16页
     ·实验现状第11-16页
     ·论现状第16页
   ·本论文的工作第16-17页
 参考文献第17-22页
第二章 基本理论第22-35页
   ·离子原子碰撞中的电子俘获模型第22-29页
     ·N.Bohr的经典过垒模型第22-23页
     ·扩展的过垒模型第23-24页
     ·分子库仑过垒模型第24-29页
   ·离子与固体表面碰撞中的过垒模型第29-31页
   ·离子在表面以下的中和机制第31-32页
     ·导带电子俘获第31-32页
     ·"Side-feeding"机制第32页
   ·级联跃迁模型第32-33页
 参考文献第33-35页
第三章 实验装置及方法第35-42页
   ·电子回旋共振离子源第35-37页
   ·束流聚焦准直控制系统第37-38页
   ·真空系统第38页
   ·靶室第38-39页
   ·实验靶样品第39页
   ·束流检测系统第39-40页
   ·探测器第40页
   ·数据采集系统第40-42页
第四章 实验结果和理论分析第42-59页
   ·实验谱图及处理第42-50页
     ·原始谱图第42-46页
     ·数据处理第46-50页
   ·理论计算第50-52页
     ·导带电子俘获第50-51页
     ·级联退激第51-52页
   ·K_β/K_α分支比的讨论第52-57页
   ·总结第57页
 参考文献第57-59页
致谢第59页

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