射频磁控溅射ZnO：Al薄膜及其特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·ZnO的基本特性 | 第13-16页 |
| ·ZnO的结构特性 | 第13-14页 |
| ·ZnO的电学特性 | 第14页 |
| ·ZnO的光学特性 | 第14-16页 |
| ·ZnO:Al(AZO)薄膜的基本性质 | 第16-20页 |
| ·AZO薄膜结构与电学特性 | 第16-17页 |
| ·AZO薄膜光学特性 | 第17-20页 |
| ·本论文研究的目的 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 AZO薄膜制备与测试方法 | 第26-48页 |
| ·AZO薄膜的制备方法 | 第26-33页 |
| ·热蒸发法 | 第26-27页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第27页 |
| ·分子束外延 | 第27-28页 |
| ·化学气相沉积 | 第28-29页 |
| ·喷雾热解法 | 第29-30页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射 | 第31-33页 |
| ·AZO薄膜的测试方法 | 第33-41页 |
| ·四探针法 | 第33-34页 |
| ·Hall效应与Van de Pauw方法 | 第34-35页 |
| ·表面轮廓仪 | 第35-36页 |
| ·X射线衍射技术 | 第36-37页 |
| ·原子力显微镜 | 第37-38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
| ·俄歇电子能谱仪与X射线光电子能谱仪 | 第39页 |
| ·紫外—可见分光光度计 | 第39-41页 |
| ·样品制备 | 第41-44页 |
| 参考文献 | 第44-48页 |
| 第三章 薄膜测试与分析 | 第48-86页 |
| ·AZO薄膜的生长模型与形貌结构 | 第48-50页 |
| ·AZO薄膜的生长模型 | 第48页 |
| ·表面形貌与区域模型 | 第48-50页 |
| ·射频溅射功率对AZO薄膜特性的影响 | 第50-61页 |
| ·射频溅射功率对AZO薄膜结构特性的影响 | 第50-54页 |
| ·射频功率对薄膜电学特性的影响 | 第54-57页 |
| ·射频功率对AZO薄膜光学特性的影响 | 第57-61页 |
| ·Ar气压强对AZO薄膜特性的影响 | 第61-69页 |
| ·气压强对AZO薄膜结构特性的影响 | 第61-63页 |
| ·Ar气压强对AZO薄膜电学特性的影响 | 第63-66页 |
| ·Ar气压强对AZO薄膜光学特性的影响 | 第66-69页 |
| ·厚度对AZO薄膜性能的影响 | 第69-74页 |
| ·厚度对AZO薄膜结构特性的影响 | 第69-71页 |
| ·厚度对AZO薄膜电学特性的影响 | 第71-73页 |
| ·厚度对AZO薄膜光学性质的影响 | 第73-74页 |
| ·热退火对AZO薄膜特性的影响 | 第74-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 第四章 结论 | 第86-88页 |
| 附录:论文发表情况 | 第88-89页 |
| 致谢 | 第89页 |
