摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
第一章 绪论 | 第11-24页 |
·引言 | 第11-12页 |
·纳米材料的研究概况 | 第12-13页 |
·纳米材料的制备方法 | 第13-17页 |
·液相法 | 第13-15页 |
·固相法 | 第15-16页 |
·气相法 | 第16-17页 |
·模板合成法 | 第17页 |
·自组装技术 | 第17页 |
·纳米材料的特性 | 第17-20页 |
·量子尺寸效应 | 第18页 |
·小尺寸效应 | 第18-19页 |
·表面效应 | 第19页 |
·宏观量子隧道效应 | 第19页 |
·库仑堵塞与量子隧穿 | 第19-20页 |
·介电限域效应 | 第20页 |
·纳米材料的应用 | 第20-21页 |
·本论文研究目的和内容 | 第21-22页 |
参考文献 | 第22-24页 |
第二章 直流电弧等离子体制备一维纳米材料的形成机理分析 | 第24-36页 |
·电弧现象 | 第24-29页 |
·基本概念 | 第24-26页 |
·电弧放电 | 第26-28页 |
·辉光放电 | 第28页 |
·气氛对电弧放电的影响 | 第28-29页 |
·等离子体基本概述 | 第29-30页 |
·等离子体的概念 | 第29-30页 |
·气体的热电离和等离子体 | 第30页 |
·等离子弧的特性 | 第30-32页 |
·等离子弧 | 第30-31页 |
·等离子弧的热特性 | 第31页 |
·等离子弧的电特性 | 第31-32页 |
·等离子弧燃烧的稳定性 | 第32页 |
·等离子体弧光放电 | 第32-34页 |
参考文献 | 第34-36页 |
第三章 等离子体电弧放电法制备一维纳米复合结构 | 第36-48页 |
·引言 | 第36-38页 |
·硅纳米管存在的可能性 | 第36-37页 |
·同轴纳米电缆简介及其研究现状 | 第37-38页 |
·锡填充硅纳米管的制备 | 第38-43页 |
·试验装置 | 第38页 |
·样品的制备过程 | 第38-39页 |
·锡填充硅纳米管的表征 | 第39-42页 |
·硅纳米管的生长机制 | 第42-43页 |
·锡填充二氧化硅纳米管的制备与表征 | 第43-44页 |
·浸润性对填充度的影响 | 第44-46页 |
·本章小结 | 第46页 |
参考文献 | 第46-48页 |
第四章 等离子体电弧放电制备一维半导体纳米线 | 第48-59页 |
·一维半导体纳米线简介 | 第48-52页 |
·半导体纳米结构的的特性 | 第49-50页 |
·半导体纳米材料的应用前景 | 第50页 |
·半导体纳米材料的制备方法及其研究进展 | 第50-52页 |
·镍催化硅纳米线和锡催化硫化锌纳米线的制备与表征 | 第52-54页 |
·样品的制备过程 | 第52页 |
·镍催化硅纳米线的表征 | 第52-54页 |
·硫化锌纳米线的表征 | 第54-55页 |
·等离子体增强气象沉积中一维纳米线的形成 | 第55-57页 |
·本章小结 | 第57页 |
参考文献 | 第57-59页 |
第五章 水热法制备片状孪晶氧化铜 | 第59-68页 |
·水热法简介 | 第59-60页 |
·水热法原理 | 第59页 |
·水热合成特点 | 第59-60页 |
·片状孪晶氧化铜的制备和表征 | 第60-64页 |
·氧化铜简介 | 第60-61页 |
·片状孪晶氧化铜的制备过程 | 第61页 |
·片状孪晶氧化铜的表征 | 第61-64页 |
·生长机理 | 第64-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第六章 结论 | 第68-69页 |
学术论文发表情况 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |