| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| ·课题背景 | 第10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·目前TIO_2 光催化剂的制备方法 | 第12-13页 |
| ·TIO_2 光催化剂应用 | 第13-15页 |
| ·选题的意义和主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 TIO_2的光催化机理及影响因素 | 第17-25页 |
| ·半导体材料的光催化机理 | 第17-19页 |
| ·金属离子掺杂TIO_2 光催化机理 | 第19-20页 |
| ·TIO_2 光催化剂的改性 | 第20-21页 |
| ·影响TIO_2 薄膜光催化活性的因素 | 第21-25页 |
| ·晶体晶型 | 第21-23页 |
| ·晶粒尺寸大小 | 第23页 |
| ·表面积的影响 | 第23-24页 |
| ·表面羟基的影响 | 第24页 |
| ·镀膜底物对溶液降解率的影响 | 第24页 |
| ·甲基橙初始pH 值对光降解率的影响 | 第24-25页 |
| 第3章 掺杂金属离子纳米TIO_2薄膜的制备 | 第25-32页 |
| ·化学试剂和仪器 | 第25页 |
| ·试验部分 | 第25-29页 |
| ·试验原理 | 第25-26页 |
| ·试验工艺流程图 | 第26-27页 |
| ·TiO_2 溶胶的制备 | 第27-28页 |
| ·浸渍-提拉法镀膜 | 第28-29页 |
| ·薄膜的热处理 | 第29页 |
| ·指示剂的选择和光催化活性的测试 | 第29-30页 |
| ·催化剂的表征 | 第30-31页 |
| ·XRD 分析 | 第30-31页 |
| ·SEM 分析 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第4章 离子掺杂对TIO_2光降解率影响及结构表征 | 第32-44页 |
| ·离子掺杂浓度与光催化活性的关系 | 第32-33页 |
| ·离子掺杂对降解率的影响 | 第33-39页 |
| ·La~(3+)浓度对TiO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第33-34页 |
| ·Ce~(3+)浓度对TiO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第34-35页 |
| ·Fe~(3+)浓度对TiO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第35-36页 |
| ·Ni~(2+)浓度对TiO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第36页 |
| ·Zn~(2+)浓度对TiO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第36-37页 |
| ·Cu~(2+)浓度对TiO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第37-38页 |
| ·金属离子掺杂TiO_2 薄膜的催化活性评价结果 | 第38-39页 |
| ·煅烧温度对TIO_2 薄膜光催化性能的影响 | 第39-40页 |
| ·XRD 结果分析 | 第40-42页 |
| ·薄膜表面的SEM 结果分析 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第5章 离子化学性质与离子掺杂活性的关系 | 第44-51页 |
| ·离子半径与价态对TIO_2 光催化活性的影响 | 第44-45页 |
| ·离子电荷与半径的比值与光催化活性的关系 | 第45-46页 |
| ·离子的电子构型与光催化活性的关系 | 第46页 |
| ·离子稳定氧化态的电子亲和势与光催化活性的关系 | 第46-47页 |
| ·元素的第一电离能与光催化活性的关系 | 第47-48页 |
| ·吸附氧对催化剂光催化性能的影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
