| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| 第一节 形状记忆合金简介 | 第7-9页 |
| ·形状记忆合金诞生 | 第7-8页 |
| ·形状记忆合金的应用 | 第8-9页 |
| ·高科技展望 | 第9页 |
| 第二节 形状记忆效应的基本原理 | 第9-12页 |
| ·形状记忆效应 | 第9-10页 |
| ·热弹性马氏体 | 第10-11页 |
| ·形状记忆效应本质 | 第11-12页 |
| 第三节 TiNi形状记忆合金薄膜的研究现状 | 第12-23页 |
| ·形状记忆合金薄膜的制备 | 第12-15页 |
| ·薄膜生长理论 | 第15-18页 |
| ·TiNi 合金的相结构 | 第18-22页 |
| ·TiNi 薄膜的相变行为 | 第22-23页 |
| 第四节 选题意义及研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 磁控溅射TiNi薄膜及表征方法 | 第25-36页 |
| 第一节 TiNi薄膜的制备及热处理工艺 | 第25-30页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第25-29页 |
| ·薄膜的制备及处理过程 | 第29页 |
| ·非晶薄膜的热处理工艺 | 第29-30页 |
| 第二节 TiNi薄膜的表征方法 | 第30-36页 |
| ·薄膜表面形貌表征 | 第30-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD）方法 | 第31-34页 |
| ·透射电子显微镜 | 第34-35页 |
| ·纳米压痕仪 | 第35-36页 |
| 第三章 TiNi合金薄膜的生长 | 第36-53页 |
| 第一节 引言 | 第36页 |
| 第二节 TiNi薄膜的生长过程 | 第36-44页 |
| ·TiNi 薄膜的生长 | 第36-42页 |
| ·归一化温度对薄膜生长的影响 | 第42-44页 |
| 第三节 溅射参数和热处理条件对TiNi薄膜表面形貌的影响 | 第44-51页 |
| ·工作压强对TiNi 薄膜表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·溅射功率对TiNi 薄膜表面形貌的影响 | 第46-49页 |
| ·退火条件对TiNi 薄膜表面形貌的影响 | 第49-51页 |
| 第四节 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 TiNi合金薄膜的微观结构 | 第53-74页 |
| 第一节 引言 | 第53页 |
| 第二节 实验过程及分析 | 第53-73页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第53-54页 |
| ·薄膜晶化过程 | 第54-61页 |
| ·不同退火条件对薄膜结构的影响 | 第61-66页 |
| ·Ti_3Ni_4相的转变 | 第66-69页 |
| ·退火条件对薄膜力学性能的影响 | 第69-73页 |
| 第三节 本章小结 | 第73-74页 |
| 第五章 结论及展望 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
| 中文摘要 | 第84-87页 |
| Abstract | 第87-90页 |