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Pd及La修饰γ-Al2O3(110D)表面电子结构及相互作用的密度泛函研究

摘要第1-5页
Abstracts第5-9页
第一章 绪论第9-14页
   ·前言第9-11页
   ·研究现状第11-12页
     ·γ-Al_2O_3表面负载Pd的研究现状第11-12页
     ·La修饰γ-Al_2O_3的研究现状第12页
   ·论文研究目的第12-14页
第二章 理论基础与计算方法第14-24页
   ·引言第14-15页
   ·密度泛函理论简介第15-19页
     ·Hohenberg—Kohn定理第15-16页
     ·Kohn-Sham(沈吕九)方程第16-17页
     ·局域密度近似(Local Density Approximation,LDA)第17-18页
     ·广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation,GGA)第18-19页
   ·Bloch定理第19页
   ·赝势近似第19-20页
   ·物理量的含义第20-22页
     ·能带与态密度第20-21页
     ·Mulliken布居分析第21页
     ·电子局域函数第21-22页
   ·CASTEP软件简介第22-24页
第三章 γ-Al_2O_3(100)、(110D)表面的弛豫结构及吸附CH_x(x=0~4)的密度泛函研究第24-38页
   ·引言第24-25页
   ·计算模型与方法第25-26页
   ·计算结果与讨论第26-37页
     ·γ-Al_2O_3(100)、(110D)表面弛豫第26-29页
       ·γ-Al_2O_3(100)表面弛豫第26-28页
       ·γ-Al_2O_3(110D)表面弛豫第28-29页
     ·表面电子密度第29-31页
       ·γ-Al_2O_3(100)的表面电子密度第29-30页
       ·γ-Al_2O_3(110D)的表面电子密度第30-31页
     ·γ-Al_2O_3(100)、(110D)表面的稳定性比较第31页
     ·CH_x(x=0~4)在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附第31-37页
       ·CH_4在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附第31-33页
       ·CH_3在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附第33-34页
       ·CH_2在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附第34-35页
       ·CH在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附第35-37页
       ·C在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附第37页
   ·本章小结第37-38页
第四章 γ-Al_2O_3(110D)表面负载Pd单原子和二聚体的密度泛函研究第38-48页
   ·引言第38-39页
   ·计算方法第39-40页
   ·结果与讨论第40-47页
     ·Pd负载在γ-Al_2O_3(110D)表面第40-43页
       ·构型优化第40-41页
       ·态密度分析第41-42页
       ·Pd原子的布居分析第42-43页
       ·差分电荷密度图第43页
     ·Pd二聚体负载在γ-Al_2O_3(110D)表面第43-47页
       ·构型优化第43-44页
       ·电子密度分析第44-45页
       ·态密度分析第45-47页
   ·本章小结第47-48页
第五章 La修饰γ-Al_2O_3(110D)表面的密度泛函研究第48-56页
   ·引言第48页
   ·计算方法第48-49页
   ·结果与讨论第49-55页
     ·La吸附在γ-Al_2O_3(110D)表面第49-52页
       ·结构优化第49-50页
       ·态密度分析第50-51页
       ·电子密度分析第51-52页
     ·La掺杂γ-Al_2O_3(110D)表面第52-55页
       ·结构优化第52-53页
       ·态密度分析第53-54页
       ·电子密度分析第54-55页
   ·本章小结第55-56页
第六章 结论及今后工作展望第56-58页
   ·主要研究工作结论第56-57页
   ·今后工作建议及展望第57-58页
参考文献第58-68页
致谢第68-69页
攻读硕士期间发表的论文第69页

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