摘要 | 第1-5页 |
Abstracts | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-14页 |
·前言 | 第9-11页 |
·研究现状 | 第11-12页 |
·γ-Al_2O_3表面负载Pd的研究现状 | 第11-12页 |
·La修饰γ-Al_2O_3的研究现状 | 第12页 |
·论文研究目的 | 第12-14页 |
第二章 理论基础与计算方法 | 第14-24页 |
·引言 | 第14-15页 |
·密度泛函理论简介 | 第15-19页 |
·Hohenberg—Kohn定理 | 第15-16页 |
·Kohn-Sham(沈吕九)方程 | 第16-17页 |
·局域密度近似(Local Density Approximation,LDA) | 第17-18页 |
·广义梯度近似(Generalized Gradient Approximation,GGA) | 第18-19页 |
·Bloch定理 | 第19页 |
·赝势近似 | 第19-20页 |
·物理量的含义 | 第20-22页 |
·能带与态密度 | 第20-21页 |
·Mulliken布居分析 | 第21页 |
·电子局域函数 | 第21-22页 |
·CASTEP软件简介 | 第22-24页 |
第三章 γ-Al_2O_3(100)、(110D)表面的弛豫结构及吸附CH_x(x=0~4)的密度泛函研究 | 第24-38页 |
·引言 | 第24-25页 |
·计算模型与方法 | 第25-26页 |
·计算结果与讨论 | 第26-37页 |
·γ-Al_2O_3(100)、(110D)表面弛豫 | 第26-29页 |
·γ-Al_2O_3(100)表面弛豫 | 第26-28页 |
·γ-Al_2O_3(110D)表面弛豫 | 第28-29页 |
·表面电子密度 | 第29-31页 |
·γ-Al_2O_3(100)的表面电子密度 | 第29-30页 |
·γ-Al_2O_3(110D)的表面电子密度 | 第30-31页 |
·γ-Al_2O_3(100)、(110D)表面的稳定性比较 | 第31页 |
·CH_x(x=0~4)在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附 | 第31-37页 |
·CH_4在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附 | 第31-33页 |
·CH_3在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附 | 第33-34页 |
·CH_2在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附 | 第34-35页 |
·CH在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附 | 第35-37页 |
·C在γ-Al_2O_3(110D)表面的吸附 | 第37页 |
·本章小结 | 第37-38页 |
第四章 γ-Al_2O_3(110D)表面负载Pd单原子和二聚体的密度泛函研究 | 第38-48页 |
·引言 | 第38-39页 |
·计算方法 | 第39-40页 |
·结果与讨论 | 第40-47页 |
·Pd负载在γ-Al_2O_3(110D)表面 | 第40-43页 |
·构型优化 | 第40-41页 |
·态密度分析 | 第41-42页 |
·Pd原子的布居分析 | 第42-43页 |
·差分电荷密度图 | 第43页 |
·Pd二聚体负载在γ-Al_2O_3(110D)表面 | 第43-47页 |
·构型优化 | 第43-44页 |
·电子密度分析 | 第44-45页 |
·态密度分析 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第五章 La修饰γ-Al_2O_3(110D)表面的密度泛函研究 | 第48-56页 |
·引言 | 第48页 |
·计算方法 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-55页 |
·La吸附在γ-Al_2O_3(110D)表面 | 第49-52页 |
·结构优化 | 第49-50页 |
·态密度分析 | 第50-51页 |
·电子密度分析 | 第51-52页 |
·La掺杂γ-Al_2O_3(110D)表面 | 第52-55页 |
·结构优化 | 第52-53页 |
·态密度分析 | 第53-54页 |
·电子密度分析 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第六章 结论及今后工作展望 | 第56-58页 |
·主要研究工作结论 | 第56-57页 |
·今后工作建议及展望 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第69页 |