磁控溅射制备TiAlN和ZnO薄膜的研究

论文摘要	第1-9页
ABSTRACT	第9-10页
第一章 绪论	第10-12页
·引言	第10页
·研究的内容和目的	第10-12页
·TiAlN薄膜	第10-11页
·ZnO薄膜	第11-12页
第二章 制备技术与测试技术	第12-18页
·磁控溅射技术	第12-15页
·磁控溅射概述	第12-13页
·磁控溅射的应用	第13-14页
·研究使用的磁控溅射设备	第14-15页
·测试 TiAlN薄膜使用的方法	第15-16页
·测试 ZnO薄膜使用的方法	第16-18页
第三章 TiAlN薄膜的研究	第18-27页
·概述	第18页
·薄膜制备	第18-19页
·测试结果与分析	第19-26页
·薄膜的厚度与成份比	第19-20页
·不同Al溅射功率对薄膜硬度和杨氏模量的影响分析	第20-22页
·不同Al溅射功率对薄膜表面粗糙度的影响分析	第22-26页
·本章小结	第26-27页
第四章 ZnO薄膜的研究	第27-47页
·概述	第27-29页
·薄膜制备	第29-30页
·实验结果与分析	第30-45页
·薄膜的色泽与生长参数	第30页
·薄膜的光谱分析	第30-38页
·薄膜的结构、能带和其他的物理性能分析	第38-45页
·本章小结	第45-47页
第五章 总结	第47-48页
参考文献	第48-51页
致谢	第51-52页
硕士期间完成的文章	第52页