摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-19页 |
1.1 聚合物渗透蒸发膜 | 第10-12页 |
1.2 无机膜 | 第12-13页 |
1.3 无机/有机复合膜 | 第13-15页 |
1.4 本论文选题背景和工作思路 | 第15-16页 |
1.5 本论文主要研究内容 | 第16-17页 |
参考文献 | 第17-19页 |
第二章 基本原理 | 第19-30页 |
2.1 无机陶瓷膜的表面改性 | 第19页 |
2.2 聚合物刷的研究进展 | 第19-25页 |
2.2.1 聚合物刷的应用和特点 | 第19-21页 |
2.2.2 共价键合的聚合物刷合成方法 | 第21-25页 |
2.3 接枝高分子表面结构及链行为 | 第25页 |
2.4 渗透蒸发原理 | 第25-28页 |
参考文献 | 第28-30页 |
第三章 无机微孔SiO_2膜的合成 | 第30-39页 |
3.1 实验部分 | 第32-33页 |
3.1.1 实验试剂 | 第32页 |
3.1.2 仪器 | 第32-33页 |
3.1.3 SiO_2膜的制备过程 | 第33页 |
3.1.3.1 气相沉积法(CVD) | 第33页 |
3.1.3.2 溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第33页 |
3.2 SiO_2膜的表征 | 第33-37页 |
3.2.1 XRD表征 | 第33-34页 |
3.2.2 Reflex-IR表征 | 第34页 |
3.2.3 SEM对SiO_2膜表面形貌的观察 | 第34-36页 |
3.2.4 SiO_2膜厚的EDX表征 | 第36-37页 |
3.3 结论 | 第37页 |
参考文献 | 第37-39页 |
第四章 无机微孔膜表面硅烷化改性 | 第39-52页 |
4.1 实验部分 | 第41-42页 |
4.1.1 实验试剂 | 第41页 |
4.1.2 SiO_2粉末样品的硅烷化反应及其表 | 第41页 |
4.1.3 SiO_2微孔膜的硅烷化反应及其表征 | 第41页 |
4.1.4 单晶硅片的硅烷化反应及其表征 | 第41-42页 |
4.2 结果与讨论 | 第42-50页 |
4.2.1 粉末样品的红外表征 | 第42页 |
4.2.2 反应时间对偶联度的影响 | 第42-43页 |
4.2.3 反应温度对偶联度的影响 | 第43-44页 |
4.2.4 陶瓷膜和硅片表面硅烷化处理后接触角的变化 | 第44-45页 |
4.2.5 硅烷层厚度的测量 | 第45-46页 |
4.2.6 SiO_2陶瓷膜硅烷化前后的SEM观察 | 第46页 |
4.2.7 SiO_2膜硅烷化前后的AFM观察 | 第46-47页 |
4.2.8 单晶硅片表面形态的AFM观测 | 第47-50页 |
4.3 结论 | 第50页 |
参考文献 | 第50-52页 |
第五章 亲水聚合物/SiO2复合膜的制备 | 第52-73页 |
5.1 聚丙烯酸/SiO_2复合膜的研制 | 第54-64页 |
5.1.1 实验部分 | 第54-55页 |
5.1.2 结果与讨论 | 第55-64页 |
5.2 聚丙烯酰胺/SiO_2复合膜的合成 | 第64-70页 |
5.2.1 实验部分 | 第64-65页 |
5.2.2 结果与讨论 | 第65-70页 |
5.3 结论 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-73页 |
第六章 复合膜渗透蒸发性质的研究 | 第73-85页 |
6.1 实验部分 | 第74-76页 |
6.1.1 实验装置 | 第74-75页 |
6.1.2 接枝聚合反应前后载体的纯水通量变化 | 第75-76页 |
6.2 结果与讨论 | 第76-83页 |
6.2.1 PAM/SiO_2复合膜的渗透蒸发性质 | 第76-80页 |
6.2.2 PAA/SiO_2复合膜的渗透蒸发性质 | 第80-81页 |
6.2.3 接触角分析和AFM对PAA/SiO_2膜在不同表面溶胀行为的研究 | 第81-83页 |
6.3 结论 | 第83-84页 |
参考文献 | 第84-85页 |
第七章 方沸石(ANA)膜的合成及有机接枝改性 | 第85-94页 |
7.1 实验部分 | 第86页 |
7.2 结果与讨论 | 第86-92页 |
7.2.1 ANA沸石膜的合成 | 第86-87页 |
7.2.2 方沸石膜结晶的XRD表征 | 第87-88页 |
7.2.3 方沸石膜的形态的SEM观察 | 第88页 |
7.2.4 方沸石膜的EDX表征 | 第88-89页 |
7.2.5 方沸石膜的渗透蒸发性质 | 第89-90页 |
7.2.6 有关沸石膜改性的文献工作 | 第90-91页 |
7.2.7 方沸石膜的有机接枝改性 | 第91-92页 |
7.3 结论 | 第92页 |
参考文献 | 第92-94页 |
第八章 ZSM-5沸石膜的渗透蒸发性质研究及沸石膜的原位修补 | 第94-108页 |
8.1 沸石膜的分离机理 | 第96-97页 |
8.2.实验部分 | 第97页 |
8.2.1 原料 | 第97页 |
8.2.2 ZSM-5沸石膜的合成 | 第97页 |
8.2.3 沸石膜结构表征 | 第97页 |
8.3.结果与讨论 | 第97-102页 |
8.3.1 沸石膜的XRD表征 | 第97-98页 |
8.3.2 沸石膜的表面和断面形态 | 第98-99页 |
8.3.3 Si/Al比随膜厚的变化 | 第99-100页 |
8.3.4 沸石膜的渗透蒸发性能 | 第100-102页 |
8.3.4.1 膜的分离性能与料液浓度的关系 | 第100-101页 |
8.3.4.2 沸石膜对不同醇/水混合物的渗透蒸发性能 | 第101-102页 |
8.4 ZSM-5沸石膜的原位修复 | 第102-104页 |
8.4.1 修复实验 | 第103页 |
8.4.2 修复膜的SEM照片 | 第103-104页 |
8.4.3 沸石膜修复过程中通量的变化 | 第104页 |
8.5 沸石膜修复后的渗透蒸发性质 | 第104-105页 |
8.6 结论 | 第105页 |
参考文献 | 第105-108页 |
结论 | 第108-110页 |
Publication | 第110-111页 |
致谢 | 第111-112页 |
论文独创性声明 | 第112页 |
论文使用授权声明 | 第112页 |