| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-31页 |
| 1．1 医用辐射技术的发展及要求 | 第9-11页 |
| 1．2 金刚石薄膜辐射剂量计的研究 | 第11-19页 |
| 1．2．1 金刚石膜辐射剂量计的工作原理 | 第12-14页 |
| 1．2．2 金刚石膜辐射剂量计的研究进展 | 第14-16页 |
| 1．2．3 存在问题 | 第16-18页 |
| 1．2．4 应用前景 | 第18-19页 |
| 1．3 金刚石膜的性质、制备及应用 | 第19-29页 |
| 1．3．1 金刚石膜的性能及应用 | 第19-21页 |
| 1．3．2 化学气相沉积金刚石膜技术概况 | 第21-29页 |
| 1．4 本论文设想 | 第29-30页 |
| 1．5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第二章 实验原理与方法 | 第31-37页 |
| 2．1 金刚石膜的低温合成原理 | 第31-32页 |
| 2．2 MPCVD法的制备原理 | 第32-33页 |
| 2．3 实验设备及表征方法 | 第33-35页 |
| 2．3．1 实验所用设备 | 第33-34页 |
| 2．3．2 金刚石薄膜组成与结构的表征 | 第34-35页 |
| 2．4 金刚石膜辐射剂量计的工作原理 | 第35-36页 |
| 2．5 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 高纯度、高取向金刚石薄膜的研究 | 第37-55页 |
| 3．1 预处理及分析 | 第38-39页 |
| 3．2 沉积过程及分析 | 第39-41页 |
| 3．3 实验结果与讨论 | 第41-54页 |
| 3．3．1 形貌和取向性的影响因素分析 | 第41-46页 |
| 3．3．2 不同沉积工艺方法的影响 | 第46页 |
| 3．3．3 电阻率的影响因素分析 | 第46-50页 |
| 3．3．4 原位等离子体后处理对金刚石薄膜表层结构及其电阻率的影响 | 第50-54页 |
| 3．4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 金刚石薄膜辐射剂量计的设计、制作及性能特点研究 | 第55-71页 |
| 4．1 金刚石膜辐射剂量计的设计 | 第55-57页 |
| 4．2 金刚石膜辐射剂量计的制作 | 第57-58页 |
| 4．2．1 电极材料的选择 | 第57页 |
| 4．2．2 电极的制备 | 第57-58页 |
| 4．2．3 暗电流-电压特性研究 | 第58页 |
| 4．3 金刚石薄膜辐射剂量计的光电响应特性研究 | 第58-69页 |
| 4．3．1 沉积工艺方法对金刚石薄膜辐射剂量计光响应性的影响 | 第61-62页 |
| 4．3．2 金刚石薄膜取向性、电阻率对辐射剂量计光响应的影响 | 第62-66页 |
| 4．3．3 等离子体后处理金刚石膜辐射剂量计对 X射线响应的影响 | 第66-68页 |
| 4．3．4 金刚石膜辐射剂量计的响应速度 | 第68-69页 |
| 4．4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章 全文总结 | 第71-74页 |
| 参考文献 | 第74-81页 |
| 攻读硕士期间发表、录用的学术文章及获奖情况 | 第81-82页 |
| 声明 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
