| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-44页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第12-15页 |
| 1.2 基于超材料（Metamaterials）的手性结构与圆偏振二色性 | 第15-17页 |
| 1.2.1 超材料 | 第15页 |
| 1.2.2 手性结构（Chirality）与圆偏振二色性 | 第15-17页 |
| 1.3 圆偏振二色性器件的国内外研究现状 | 第17-35页 |
| 1.3.1 亚波长三维金属结构的圆偏振二色性研究现状 | 第17-23页 |
| 1.3.2 亚波长二维金属结构的圆偏振二色性研究现状 | 第23-28页 |
| 1.3.3 全介质手性结构的圆偏振二色性研究现状 | 第28-32页 |
| 1.3.4 全斯托克斯像素式偏振器件研究现状 | 第32-35页 |
| 1.4 课题的意义和主要研究内容 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-44页 |
| 第二章 圆偏振二色性器件的相关理论与制备技术 | 第44-59页 |
| 2.1 引言 | 第44页 |
| 2.2 圆偏振二色性器件的基础理论 | 第44-50页 |
| 2.2.1 光波偏振态的描述：Jones矢量和Stokes参数 | 第44-46页 |
| 2.2.2 手性材料的圆偏振二色性 | 第46-50页 |
| 2.3 时域有限差分（FDTD）数值计算方法 | 第50-52页 |
| 2.4 三维激光直写系统制备技术 | 第52-54页 |
| 2.5 电子束曝光直写系统制备技术 | 第54-56页 |
| 2.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第三章 亚波长螺旋面型圆偏振器件的理论设计与制备 | 第59-91页 |
| 3.1 引言 | 第59-60页 |
| 3.2 单圈亚波长螺旋面圆偏振二色性器件的理论设计 | 第60-68页 |
| 3.2.1 单圈亚波长螺旋面结构单元的设计 | 第60-61页 |
| 3.2.2 单圈亚波长螺旋面结构的圆偏振二色性及结构参数优化 | 第61-68页 |
| 3.3 亚波长螺旋面圆偏振二色性机理的讨论 | 第68-71页 |
| 3.4 数值模拟中螺旋面结构基底材料影响的讨论 | 第71-73页 |
| 3.5 实验制备过程中全金属覆盖螺旋面结构的设计 | 第73-75页 |
| 3.6 多圈亚波长螺旋面圆偏振器件的理论设计 | 第75-82页 |
| 3.6.1 多圈亚波长螺旋面结构单元的设计 | 第75-76页 |
| 3.6.2 多圈亚波长螺旋面结构的圆偏振二色性及结构参数优化 | 第76-82页 |
| 3.7 单圈亚波长螺旋面器件的实验制备 | 第82-86页 |
| 3.8 单圈亚波长螺旋面器件的实验检测 | 第86-88页 |
| 3.8.1 实验检测光路 | 第86-88页 |
| 3.8.2 实验检测结果与分析 | 第88页 |
| 3.9 本章小结 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-91页 |
| 第四章 全介质二维亚波长圆偏振二色性器件的理论设计与制备 | 第91-119页 |
| 4.1 引言 | 第91-92页 |
| 4.2 全介质二维亚波长圆偏振二色性器件的理论设计 | 第92-99页 |
| 4.2.1 全介质二维亚波长―Z‖型结构单元的设计 | 第92-93页 |
| 4.2.2 全介质二维亚波长―Z‖型结构圆偏振二色性及参数优化 | 第93-99页 |
| 4.3 全介质二维亚波长―Z‖型结构圆偏振二色性机理的讨论 | 第99-101页 |
| 4.4 全介质二维亚波长―Z‖型结构特殊光学性能的研究 | 第101-106页 |
| 4.4.1 器件对不同圆偏振光入射的透射和反射光的偏振态的影响 | 第101-103页 |
| 4.4.2 器件对不同方位角线偏振光入射的透射和反射光的偏振态的影响 | 第103-104页 |
| 4.4.3 实验制备参数下全介质亚波长―Z‖型结构的光学性能的研究 | 第104-106页 |
| 4.5 数值模拟全介质―Z‖结构材料和实验参数影响的讨论 | 第106-108页 |
| 4.6 全介质二维亚波长―Z‖型圆偏振二色性器件的实验制备 | 第108-113页 |
| 4.7 全介质二维亚波长―Z‖型结构圆偏振二色性器件的实验检测 | 第113-117页 |
| 4.7.1 实验检测光路 | 第113-114页 |
| 4.7.2 实验检测结果与分析 | 第114-117页 |
| 4.8 本章小结 | 第117页 |
| 参考文献 | 第117-119页 |
| 第五章 全斯托克斯像素式偏振器件的理论设计与制备 | 第119-136页 |
| 5.1 引言 | 第119-120页 |
| 5.2 全介质线偏振器件的理论设计与参数优化 | 第120-123页 |
| 5.2.1 全介质线偏振器件的理论设计 | 第120-121页 |
| 5.2.2 全介质线偏振器件的参数优化 | 第121-123页 |
| 5.3 全介质光栅偏振效应的机理讨论 | 第123-126页 |
| 5.4 基于绝缘硅片（SOI）的全斯托克斯偏振器件的理论设计 | 第126-128页 |
| 5.4.1 基于绝缘硅片的光栅线偏振器件理论设计 | 第126-127页 |
| 5.4.2 基于绝缘硅片的―Z‖型圆偏振二色性器件理论设计 | 第127-128页 |
| 5.5 数值模拟基于绝缘硅片的光栅线偏振器件实验参数影响 | 第128-129页 |
| 5.6 全介质超表面像素式全斯托克斯矢量偏振片的结构设计 | 第129-130页 |
| 5.7 全斯托克斯像素式偏振器件的实验制备 | 第130-132页 |
| 5.8 全斯托克斯像素式偏振器件的实验检测与分析 | 第132-134页 |
| 5.9 本章小结 | 第134页 |
| 参考文献 | 第134-136页 |
| 第六章 总结与展望 | 第136-139页 |
| 6.1 总结 | 第136-138页 |
| 6.2 展望 | 第138-139页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第139-144页 |
| 致谢 | 第144-145页 |
