摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
1-1 引言 | 第10-11页 |
1-2 生物医学材料的发展概况 | 第11-14页 |
1-2-1 生物医学材料的应用 | 第11-12页 |
1-2-2 生物医学材料的分类 | 第12-14页 |
1-2-2-1 医用金属材料 | 第12-13页 |
1-2-2-2 医用高分子材料 | 第13页 |
1-2-2-3 生物陶瓷材料 | 第13-14页 |
1-2-2-4 生物医学复合材料 | 第14页 |
1-3 钛及其合金的性能与应用 | 第14-17页 |
1-3-1 钛金属性能概述 | 第14-15页 |
1-3-2 钛合金生物相容性概述 | 第15-16页 |
1-3-3 医用钛及其合金的研究与应用 | 第16-17页 |
1-4 医用钛及其合金的研究热点与趋势 | 第17-21页 |
1-4-1 新型β钛合金 | 第17-19页 |
1-4-2 钛合金的表面改性 | 第19-21页 |
1-4-3 发展趋势 | 第21页 |
1-5 本研究的工作内容 | 第21-23页 |
第二章 实验材料、设备及方法 | 第23-31页 |
2-1 实验材料 | 第23-24页 |
2-1-1 基体制备用原材料 | 第23页 |
2-1-2 防污染坩埚涂层制备用原材料 | 第23页 |
2-1-3 钛基体表面功能涂层制备用原材料 | 第23-24页 |
2-1-4 模拟体液培养用试剂 | 第24页 |
2-1-5 细胞培养试验用试剂 | 第24页 |
2-2 实验仪器及设备 | 第24-25页 |
2-2-1 材料制备及性能测试用仪器及设备 | 第24页 |
2-2-2 表面活化、模拟体液试验用仪器及设备 | 第24-25页 |
2-2-3 细胞培养试验用仪器及设备 | 第25页 |
2-2-4 组织结构观察与成分分析用仪器及设备 | 第25页 |
2-3 实验工艺与方法 | 第25-31页 |
2-3-1 钛合金基体的制备 | 第25-27页 |
2-3-1-1 真空感应熔炼炉熔炼基体 | 第25-26页 |
2-3-1-2 非自耗真空电弧凝壳炉熔炼钛及钛合金 | 第26-27页 |
2-3-2 钛酸钾晶须的制备 | 第27-28页 |
2-3-3 钛合金基K_2Ti_nO_(2n+1)涂层复合材料的制备 | 第28页 |
2-3-4 模拟体液(SBF)培养试验 | 第28-29页 |
2-3-4-1 模拟体液的离子组成及配方 | 第28页 |
2-3-4-2 培养方案 | 第28-29页 |
2-3-5 细胞培养实验 | 第29-31页 |
2-3-5-1 所用试剂配方了 | 第29页 |
2-3-5-2 培养方案 | 第29-31页 |
第三章 钛基体的制备及显微组织分析 | 第31-40页 |
3-1 钛基体熔炼技术发展简介 | 第31-32页 |
3-2 钛合金的成分设计 | 第32-34页 |
3-3 钛合金的真空感应熔炼 | 第34-36页 |
3-4 非自耗真空电弧凝壳炉熔炼钛合金 | 第36-40页 |
第四章 K_2Ti_nO_(2n+1)表面改性功能涂层 | 第40-51页 |
4-1 引言 | 第40-41页 |
4-2 KDC法制备钛酸钾晶须 | 第41-47页 |
4-2-1 四钛酸钾晶须的制备 | 第41-43页 |
4-2-2 六钛酸钾晶须的制备 | 第43-45页 |
4-2-3 钛酸钾晶须反应机制 | 第45-47页 |
4-3 钛合金基钛酸钾晶须涂层的制备 | 第47-49页 |
4-3-1 钛酸钾涂层的制备 | 第47-48页 |
4-3-2 表面粗糙度对涂层结合强度的影响 | 第48-49页 |
4-4 钛酸钾涂层的原位生长机理 | 第49-51页 |
第五章 表面改性材料的模拟体液培养 | 第51-56页 |
5-1 四钛酸钾涂层SBF培养 | 第51-54页 |
5-1-1 SBF培养沉积层的微观形貌和成分分析 | 第51-52页 |
5-1-2 K_2Ti_nO_(2n+1)诱导HA沉积机理 | 第52-54页 |
5-2 六钛酸钾涂层SBF培养 | 第54-56页 |
第六章 表面改性材料的细胞培养 | 第56-65页 |
6-1 细胞培养实验概述 | 第56-57页 |
6-2 四钛酸钾涂层细胞培养实验结果分析 | 第57-61页 |
6-2-1 四钛酸钾涂层的显微观察与SEM形貌分析 | 第57-60页 |
6-2-2 四钛酸钾涂层的细胞生长曲线测定 | 第60-61页 |
6-3 四钛酸钾涂层细胞培养机理分析 | 第61-63页 |
6-4 六钛酸钾涂层细胞培养实验结果与分析 | 第63-65页 |
结论 | 第65-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
致谢 | 第72页 |