ZnO晶须的制备、表征及应用研究
1 绪论 | 第1-14页 |
·引言 | 第7页 |
·ZnO晶须 | 第7-13页 |
·研究概况 | 第7-8页 |
·ZnO的结构 | 第8-9页 |
·T-ZnO晶须 | 第9-11页 |
·一维ZnO晶须 | 第11-13页 |
·本文研究内容 | 第13-14页 |
2 ZnO晶须的控制合成 | 第14-16页 |
·材料的制备 | 第14-15页 |
·结构表征 | 第15页 |
·性能测试 | 第15-16页 |
3 ZnO晶须的显微结构 | 第16-32页 |
·T-ZnO晶须 | 第16-25页 |
·T-ZnO晶须 | 第16-19页 |
·T-ZnO纳米晶须 | 第19-22页 |
·特殊形貌的ZnO微晶 | 第22-25页 |
·一维ZnO晶须 | 第25-28页 |
·一维ZnO晶须 | 第25-26页 |
·ZnO纳米线 | 第26-27页 |
·ZnO带状结构 | 第27-28页 |
·ZnO阵列 | 第28-32页 |
4 ZnO晶须形态控制生长机理 | 第32-47页 |
·气相中晶须生长机理 | 第32-34页 |
·气-液-固机理 | 第32-33页 |
·气-固机理 | 第33页 |
·Zn的氧化 | 第33-34页 |
·T-ZnO晶须生长机理 | 第34-39页 |
·T-ZnO晶须生长机理 | 第34-38页 |
·多针状ZnO晶须生长机理 | 第38-39页 |
·ZnO晶须和纳米线 | 第39-40页 |
·ZnO阵列 | 第40-41页 |
·ZnO晶体的生长习性 | 第41-42页 |
·气相过饱和度对ZnO晶须形态的影响 | 第42-43页 |
·工艺条件对ZnO晶须生长的影响 | 第43-47页 |
·原料 | 第43-44页 |
·温度 | 第44页 |
·其它条件 | 第44-47页 |
5 ZnO晶须的应用研究 | 第47-53页 |
·ZnO晶须的发光特性 | 第47-49页 |
·T-ZnO晶须复合材料 | 第49-53页 |
·T-ZnO晶须复合材料的制备 | 第49页 |
·T-ZnO晶须复合材料的性能 | 第49-53页 |
6 结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
硕士期间发表的论文 | 第58页 |