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超光滑光学基片表面激光清洗的机理和试验研究

第一章 绪论第1-22页
   ·激光材料加工技术第10-14页
     ·激光材料加工的特点第11-12页
     ·激光材料加工技术的主要应用第12-14页
   ·表面清洗技术第14-17页
     ·表面清洗的定义及分类第14-15页
     ·基片表面主要清洗技术简介第15-17页
   ·激光清洗技术的发展、特点及应用第17-19页
   ·论文研究的对象、内容和意义第19-20页
 参考文献:第20-22页
第二章 激光清洗的机理第22-51页
   ·微粒和基片表面的吸附作用第22-24页
   ·吸附微粒被去除的方式第24-25页
   ·激光干式清洗机理的研究第25-33页
     ·基体热膨胀去除微粒第26-31页
     ·微粒自身热膨胀去除微粒第31-33页
   ·激光湿式清洗机理的研究第33-44页
     ·热学模型的建立第34-39页
       ·强基体吸收第34-36页
       ·基片和介质膜共同吸收第36-38页
       ·强介质膜吸收第38-39页
     ·微粒被去除的机理分析第39-44页
       ·气泡成长理论第40-42页
       ·流体对表面吸附微粒的冲击作用第42-43页
       ·去除力理论计算第43-44页
   ·激光清洗机理分析的结论第44-45页
   ·超光滑光学基片表面激光湿式清洗第45-48页
     ·超光滑光学表面激光湿式清洗的模型第46-47页
     ·超光滑表面激光湿式清洗的可行性试验第47-48页
 本章小结:第48-49页
 参考文献:第49-51页
第三章 超光滑光学基片表面激光清洗的工艺试验第51-65页
   ·激光光束的特性第51-52页
   ·超光滑基片表面激光清洗对激光束的要求第52-53页
   ·超光滑表面激光辅助清洗部分工艺试验第53-55页
     ·光学玻璃上金刚石研磨膏的湿式激光清洗参数第53页
     ·光学玻璃上的SiO_2软质粒子的湿式激光清洗试验参数第53-54页
     ·YAG基片表面金刚石研磨膏的湿式激光清洗试验参数第54页
     ·光学玻璃上灰尘的干式激光清洗试验参数第54-55页
     ·石英玻璃(水晶片)表面干式激光清洗试验参数第55页
   ·试验结果分析及表面清洁度的自动评价第55-62页
     ·超光滑基片表面清洁度的评价第55-56页
     ·试验结果分析与比较第56-62页
       ·光学玻璃上金刚石研磨膏的激光湿式清洗的试验结果分析第56-58页
       ·光学玻璃上SiO_2软质粒子的激光湿式清洗试验结果分析第58-59页
       ·YAG基片表面金刚石研磨膏的激光湿式清洗试验结果分析第59-60页
       ·光学玻璃上灰尘的激光干式清洗试验结果分析第60-61页
       ·石英玻璃(水晶片)表面激光干式清洗试验结果分析第61-62页
   ·结论第62-64页
 本章小结第64页
 参考文献:第64-65页
第四章 超光滑基片表面清洁度的评定第65-77页
   ·基片表面清洁度的评定第65-66页
     ·表面清洁度的定义第65页
     ·常用表面清洁度的检测方法第65-66页
   ·杂质粒子的自动识别和分析软件的开发第66-73页
     ·超光滑基片表面清洁度的检测第66-67页
     ·需求分析第67页
     ·试验基础第67-69页
     ·自动识别和分析软件的功能要求第69-70页
     ·自动识别与分析软件(D&A软件)的实现第70-73页
   ·应用示例第73-75页
 本章小结第75-76页
 参考文献:第76-77页
第五章 结论第77-79页
致谢第79-80页
附录第80页

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