第一章 绪论 | 第1-22页 |
·激光材料加工技术 | 第10-14页 |
·激光材料加工的特点 | 第11-12页 |
·激光材料加工技术的主要应用 | 第12-14页 |
·表面清洗技术 | 第14-17页 |
·表面清洗的定义及分类 | 第14-15页 |
·基片表面主要清洗技术简介 | 第15-17页 |
·激光清洗技术的发展、特点及应用 | 第17-19页 |
·论文研究的对象、内容和意义 | 第19-20页 |
参考文献: | 第20-22页 |
第二章 激光清洗的机理 | 第22-51页 |
·微粒和基片表面的吸附作用 | 第22-24页 |
·吸附微粒被去除的方式 | 第24-25页 |
·激光干式清洗机理的研究 | 第25-33页 |
·基体热膨胀去除微粒 | 第26-31页 |
·微粒自身热膨胀去除微粒 | 第31-33页 |
·激光湿式清洗机理的研究 | 第33-44页 |
·热学模型的建立 | 第34-39页 |
·强基体吸收 | 第34-36页 |
·基片和介质膜共同吸收 | 第36-38页 |
·强介质膜吸收 | 第38-39页 |
·微粒被去除的机理分析 | 第39-44页 |
·气泡成长理论 | 第40-42页 |
·流体对表面吸附微粒的冲击作用 | 第42-43页 |
·去除力理论计算 | 第43-44页 |
·激光清洗机理分析的结论 | 第44-45页 |
·超光滑光学基片表面激光湿式清洗 | 第45-48页 |
·超光滑光学表面激光湿式清洗的模型 | 第46-47页 |
·超光滑表面激光湿式清洗的可行性试验 | 第47-48页 |
本章小结: | 第48-49页 |
参考文献: | 第49-51页 |
第三章 超光滑光学基片表面激光清洗的工艺试验 | 第51-65页 |
·激光光束的特性 | 第51-52页 |
·超光滑基片表面激光清洗对激光束的要求 | 第52-53页 |
·超光滑表面激光辅助清洗部分工艺试验 | 第53-55页 |
·光学玻璃上金刚石研磨膏的湿式激光清洗参数 | 第53页 |
·光学玻璃上的SiO_2软质粒子的湿式激光清洗试验参数 | 第53-54页 |
·YAG基片表面金刚石研磨膏的湿式激光清洗试验参数 | 第54页 |
·光学玻璃上灰尘的干式激光清洗试验参数 | 第54-55页 |
·石英玻璃(水晶片)表面干式激光清洗试验参数 | 第55页 |
·试验结果分析及表面清洁度的自动评价 | 第55-62页 |
·超光滑基片表面清洁度的评价 | 第55-56页 |
·试验结果分析与比较 | 第56-62页 |
·光学玻璃上金刚石研磨膏的激光湿式清洗的试验结果分析 | 第56-58页 |
·光学玻璃上SiO_2软质粒子的激光湿式清洗试验结果分析 | 第58-59页 |
·YAG基片表面金刚石研磨膏的激光湿式清洗试验结果分析 | 第59-60页 |
·光学玻璃上灰尘的激光干式清洗试验结果分析 | 第60-61页 |
·石英玻璃(水晶片)表面激光干式清洗试验结果分析 | 第61-62页 |
·结论 | 第62-64页 |
本章小结 | 第64页 |
参考文献: | 第64-65页 |
第四章 超光滑基片表面清洁度的评定 | 第65-77页 |
·基片表面清洁度的评定 | 第65-66页 |
·表面清洁度的定义 | 第65页 |
·常用表面清洁度的检测方法 | 第65-66页 |
·杂质粒子的自动识别和分析软件的开发 | 第66-73页 |
·超光滑基片表面清洁度的检测 | 第66-67页 |
·需求分析 | 第67页 |
·试验基础 | 第67-69页 |
·自动识别和分析软件的功能要求 | 第69-70页 |
·自动识别与分析软件(D&A软件)的实现 | 第70-73页 |
·应用示例 | 第73-75页 |
本章小结 | 第75-76页 |
参考文献: | 第76-77页 |
第五章 结论 | 第77-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
附录 | 第80页 |