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GaAs基大功率半导体激光器和高亮度发光二极管特性分析

中文摘要第1-8页
英文摘要第8-10页
第一章 绪论第10-22页
 1.1 大功率半导体激光器的发展与现状第10-11页
 1.2 大功率半导体激光器面临的主要问题第11-18页
  1.2.1 发热第12-15页
  1.2.2 光束质量第15-17页
  1.2.3 发光效率第17-18页
 1.3 高亮度发光二极管的发展与现状第18-19页
 1.4 高亮度发光二极管面临的主要问题第19-21页
  1.4.1 发热第19-20页
  1.4.2 关键技术第20-21页
 1.5 本课题的主要工作和研究意义第21-22页
第二章 新型多有源区隧道再生量子阱激光器特性分析第22-54页
 2.1 新型多有源区隧道再生量子阱激光器机理分析第22-24页
 2.2 隧道结特性分析第24-34页
  2.2.1 电学特性分析第25-29页
  2.2.2 光学特性分析第29-34页
  2.2.3 热学特性分析第34页
 2.3 新型多有源区隧道再生量子阱激光器特性分析第34-53页
  2.3.1 光学特性分析第34-47页
  2.3.2 电学特性分析第47-48页
  2.3.3 热学特性分析第48-53页
 2.4 结语第53-54页
第三章 激光器制备工艺第54-70页
 3.1 宽条形激光器制备工艺第54-57页
 3.2 宽条形激光器阈值电流分析第57-68页
  3.2.1 普通单有源区量子阱激光器阈值电流分析第57-64页
  3.2.2 新型多有源区隧道再生量子阱激光器阈值电流分析第64-68页
 3.3 工艺中存在的问题及可能的解决办法第68-69页
 3.4 结语第69-70页
第四章 AlGaInP高亮度发光二极管特性分析第70-82页
 4.1 光学特性分析第70-78页
  4.1.1 亮度表征及效率分析第70-75页
  4.1.2 轴向发光强度第75-76页
  4.1.3 P-I特性第76-77页
  4.1.4 光谱第77-78页
 4.2 电学特性分析第78-79页
 4.3 热学特性分析第79-80页
 4.4 结语第80-82页
第五章 发光管制备工艺第82-90页
 5.1 发光二极管基本制备工艺第82-84页
 5.2 工艺中存在的问题及相应的解决办法第84-89页
  5.2.1 电极制备工艺第84-85页
  5.2.2 与轴向发光强度有关的后工艺因素第85-89页
 5.3 结语第89-90页
结论第90-92页
参考文献第92-98页
致  谢第98页

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