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电子辅助化学气相沉积法(EACVD)制备纳米金刚石薄膜及其光电性能的研究

摘要第1-8页
ABSTRACT第8-11页
目录第11-13页
第一章 绪论第13-41页
   ·微米和纳米金刚石薄膜的优异特性及应用第13-19页
     ·金刚石的力学性能及其应用第13-14页
     ·金刚石的热学性能及其应用第14-15页
     ·金刚石的电学性能及其应用第15-16页
     ·金刚石的光学性能及其应用第16-19页
   ·异质外延和高取向金刚石薄膜沉积第19-29页
   ·金刚石晶面表面结构和成核生长机理第29-33页
   ·纳米金刚石薄膜的沉积制备和生长机理第33-38页
     ·纳米金刚石薄膜制备第33-36页
     ·纳米金刚石薄膜成核生长机理第36-38页
   ·金刚石薄膜正偏压增强成核第38-40页
   ·本论文的研究目的、意义和内容第40-41页
第二章 α-SiC陶瓷衬底上EACVD成核生长纳米金刚石薄膜制备、表征及机理第41-75页
   ·EA-HFCVD装置第41-43页
   ·抛光衬底表面纳米金刚石粉研磨预处理第43-44页
   ·在连续施加正偏压条件下气压对沉积金刚石薄膜的影响第44-51页
   ·1kPa气压下连续施加正偏压对SiC衬底上沉积纳米金刚石薄膜的影响第51-59页
   ·α-SiC陶瓷抛光衬底上正偏压增强成核沉积(100)和(111)定向生长薄膜第59-63页
   ·α-SiC陶瓷衬底表面EACVD成核生长金刚石薄膜机理第63-73页
     ·α-SiC表面结构第63-66页
     ·EACVD机理第66-73页
       ·电子在气体中的迁移运动第66-67页
       ·电子诱导固体表面的脱附第67-70页
       ·EACVD成核生长机理第70-73页
   ·小结第73-75页
第三章 (100)Si抛光衬底上EACVD成核生长纳米金刚石薄膜制备、表征及机理第75-107页
   ·实验装置和原料第75-76页
   ·1kPa气压下连续施加正偏压电流对Si衬底上沉积纳米金刚石薄膜的影响第76-83页
   ·Si晶片抛光表面正偏压增强成核对沉积纳米金刚石薄膜的影响第83-87页
   ·Si晶片抛光表面正偏压增强成核制备(100)定向金刚石薄膜及表征第87-93页
     ·制备工艺第89页
     ·正偏压对金刚石薄膜织构的影响第89-93页
   ·正偏压对化学气相沉积金刚石薄膜成核生长的影响机理第93-106页
     ·Si的清洁表面第93-95页
     ·Si的氢吸附表面第95页
     ·原子H与金刚石表面的作用第95-96页
     ·金刚石与硅衬底之间界面的TEM研究第96页
     ·表面结构第96-97页
     ·气体与表面结构的相互作用第97-99页
       ·吸附层的结构第97页
       ·底物表面结构第97-98页
       ·活化吸附理论第98-99页
     ·(100)Si抛光表面EACVD金刚石薄膜成核生长机理第99-106页
   ·小结第106-107页
第四章 EACVD纳米金刚石薄膜的电学性能第107-122页
   ·EACVD沉积纳米金刚石薄膜Hall效应测试及分析第107-115页
     ·电阻率测量第107-113页
     ·微米金刚石薄膜电导机制第113-114页
     ·纳米金刚石薄膜电导机制第114页
     ·EACVD纳米金刚石薄膜电导机制第114-115页
   ·EACVD沉积纳米金刚石薄膜Ⅰ-Ⅴ特性曲线测试及分析第115-119页
   ·正偏压电流增强成核对沉积纳米金刚石薄膜电学性能的影响第119-121页
   ·小结第121-122页
第五章 EACVD纳米金刚石薄膜的光学性能第122-144页
   ·EACVD纳米金刚石薄膜光致发光光谱测试第122-126页
   ·EACVD纳米金刚石薄膜光致发光机理第126-133页
   ·EACVD纳米金刚石薄膜的椭圆偏振光谱研究第133-143页
     ·椭圆偏振光谱测试原理第134-138页
     ·EACVD纳米金刚石薄膜椭偏光谱的表征第138-143页
   ·小结第143-144页
第六章 结论与展望第144-146页
参考文献第146-155页
作者在攻读博士学位期间公开发表的论文第155页
作者在攻读博士学位期间所参与的项目第155-156页
致谢第156页

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