| 提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-26页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·纳米材料基本概念 | 第8-11页 |
| ·纳米材料的分类 | 第8-9页 |
| ·纳米材料的特性 | 第9-11页 |
| ·块体纳米晶体材料的制备技术 | 第11-15页 |
| ·惰性气体蒸发原位加压法 | 第11-12页 |
| ·机械合成法（高能球磨法） | 第12-13页 |
| ·严重塑性变形法 | 第13-14页 |
| ·非晶晶化法 | 第14-15页 |
| ·电解沉积法制备纳米晶体 | 第15-20页 |
| ·电沉积制备纳米晶体的发展 | 第15-16页 |
| ·电沉积纳米晶体的制备方法 | 第16-17页 |
| ·电沉积技术的特点 | 第17-18页 |
| ·电沉积纳米晶体的应用 | 第18-20页 |
| ·纳米晶体材料的力学性能 | 第20-24页 |
| ·强度 | 第20-21页 |
| ·塑性 | 第21-22页 |
| ·应变速率敏感性 | 第22-23页 |
| ·变形机理 | 第23-24页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 实验试样制备与检测方法 | 第26-33页 |
| ·实验原理 | 第26-27页 |
| ·直流电沉积制备纳米材料 | 第27-29页 |
| ·电沉积装置及实验材料选择 | 第27-28页 |
| ·实验步骤 | 第28-29页 |
| ·样品微观结构表征 | 第29-31页 |
| ·X 射线衍射（XRD）试验 | 第29-30页 |
| ·透射电镜（TEM）分析 | 第30页 |
| ·扫描电镜（SEM）分析 | 第30页 |
| ·面探测器 X 射线衍射仪（GADDS）表征 | 第30页 |
| ·激光共聚焦光学显微镜表面形貌观察 | 第30-31页 |
| ·成分分析 | 第31页 |
| ·样品力学性能实验 | 第31-33页 |
| 第三章 层状纳米结构 Ni 的电化学制备及其力学性能研究 | 第33-45页 |
| ·前言 | 第33-34页 |
| ·层状纳米结构 Ni 的制备 | 第34-35页 |
| ·微观结构分析 | 第35-37页 |
| ·力学性能分析 | 第37-44页 |
| ·硬度试验 | 第37-39页 |
| ·拉伸性能分析 | 第39-40页 |
| ·拉伸试样断裂表面分析 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 高强度高塑性纳米晶 Ni 的电化学制备与力学性能研究- | 第45-61页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·显微结构分析 | 第46-48页 |
| ·拉伸性能研究 | 第48-54页 |
| ·应变速率对拉伸行为的影响 | 第48-52页 |
| ·断裂表面分析 | 第52-54页 |
| ·变形机理探究 | 第54-59页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·应变速率敏感指数与激活体积 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 摘要 | 第70-73页 |
| Abstract | 第73-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 导师及作者简介 | 第77页 |