| 致谢 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 1 引言 | 第10-28页 |
| ·脉冲电镀的原理 | 第10-12页 |
| ·脉冲电镀的基本原理 | 第10-11页 |
| ·脉冲电镀的优点 | 第11-12页 |
| ·纳米复合电沉积技术及其原理 | 第12-17页 |
| ·纳米复合电沉积 | 第12页 |
| ·复合镀层的沉积机理 | 第12-15页 |
| ·复合镀层的制备特点 | 第15-16页 |
| ·复合电镀的发展趋势 | 第16-17页 |
| ·纳米复合镀层的结构 | 第17页 |
| ·纳米复合镀层的研究现状 | 第17-21页 |
| ·高硬度耐磨纳米复合镀层 | 第17-18页 |
| ·耐腐蚀、装饰性纳米复合镀层 | 第18-19页 |
| ·耐高温氧化纳米复合镀层 | 第19-20页 |
| ·具有电接触功能的纳米复合镀层 | 第20页 |
| ·其他功能的纳米复合镀层 | 第20-21页 |
| ·纳米二氧化钛在复合电镀中的应用 | 第21-23页 |
| ·纳米TIO_2的光催化机理 | 第21页 |
| ·纳米TIO_2的在光催化领域中的应用 | 第21-23页 |
| ·NI-纳米TIO_2复合电镀的研究现状 | 第23页 |
| ·纳米复合电镀影响因素 | 第23-27页 |
| ·本文主要研究内容 | 第27-28页 |
| 2 实验方法 | 第28-33页 |
| ·实验仪器与设备 | 第28页 |
| ·镀前准备 | 第28-29页 |
| ·镀液配制 | 第28页 |
| ·纳米粒子的分散 | 第28-29页 |
| ·试样镀前处理 | 第29页 |
| ·镀层的制备 | 第29-30页 |
| ·镀层表面形貌分析 | 第30页 |
| ·镀层光催化性能的验证 | 第30页 |
| ·镀层光催化性能测试 | 第30-31页 |
| ·镀层中TIO_2复合量的测定 | 第31页 |
| ·电镀NI-TIO_2基本工艺参数的确定 | 第31-33页 |
| 3 高频脉冲电镀NI-TIO_2镀层的制备及最佳工艺参数的确定 | 第33-36页 |
| ·镀层中TIO_2复合量的测定 | 第33页 |
| ·测定波长的选择 | 第33页 |
| ·标准曲线的绘制 | 第33页 |
| ·电镀最佳工艺参数的确定 | 第33-36页 |
| 4 高频脉冲电镀NI-TIO_2镀层光催化性能研究 | 第36-47页 |
| ·镀层光催化性能验证实验 | 第36页 |
| ·镀层光催化性能的测定 | 第36-38页 |
| ·镀层表面形貌分析 | 第38-43页 |
| ·脉冲频率对TIO_2复合量的影响 | 第43-45页 |
| ·高频脉冲电镀与其他电镀的比较 | 第45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 5 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 作者简历 | 第53-55页 |
| 学位论文数据集 | 第55页 |