| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 低温基质隔离红外光谱研究的原理与技术 | 第10-25页 |
| ·低温基质隔离技术 | 第10-16页 |
| ·低温基质隔离技术的原理和发展 | 第10-11页 |
| ·基质的特性和选择 | 第11-12页 |
| ·基质中分子的光谱特性 | 第12-14页 |
| ·仲氢基质的特性和应用 | 第14-16页 |
| ·傅里叶变换光谱的基本原理 | 第16-21页 |
| ·原理 | 第17-18页 |
| ·傅里叶变换光谱的优点 | 第18-21页 |
| ·差频激光光谱的基本原理 | 第21-25页 |
| ·引言 | 第21-23页 |
| ·差频产生的原理 | 第23-25页 |
| 第2章 实验装置的设计及测试 | 第25-55页 |
| ·气体的制备 | 第25-35页 |
| ·气体的提纯 | 第25-26页 |
| ·利用低温液体制冷的正仲氢转化 | 第26-31页 |
| ·使用氦气闭循环压缩机制冷的正仲氢转化 | 第31-35页 |
| ·晶体的生成 | 第35-39页 |
| ·氢晶体直接生长法 | 第35-36页 |
| ·快速气体沉积法 | 第36-39页 |
| ·光谱数据的采集 | 第39-44页 |
| ·傅里叶变换光谱仪与杜瓦连用 | 第39页 |
| ·中红外差频光谱系统与杜瓦连用 | 第39-42页 |
| ·傅里叶变换光谱仪与冷头连用 | 第42-44页 |
| ·晶体厚度的测量 | 第44-49页 |
| ·氦氖激光的背射式干涉测量法 | 第45-47页 |
| ·傅里叶变换光谱中的干涉条纹测量法 | 第47-49页 |
| ·正氢浓度的测量 | 第49-55页 |
| ·利用Q_1(1)的强度和晶体厚度确定正氢浓度 | 第49-51页 |
| ·利用Q_1(0)的强度和晶体厚度确定正氢浓度 | 第51-52页 |
| ·利用Q_1(1)和Q_1(0)的相对强度比确定正氢浓度 | 第52-53页 |
| ·利用Q_1(0)和S_1(0)的相对强度比确定正氢浓度 | 第53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第3章 氧化亚氮的基质光谱研究 | 第55-77页 |
| ·氖（Ne）基质中氧化亚氮光谱 | 第55-61页 |
| ·氢基质中氧化亚氮光谱 | 第61-74页 |
| ·仲氢晶体中的N_2O的模拟计算 | 第62-64页 |
| ·N_2O振动带的归属 | 第64-67页 |
| ·N_2O光谱中的精细结构 | 第67-74页 |
| ·讨论 | 第74-77页 |
| 第4章 二氧化碳的基质光谱研究 | 第77-97页 |
| ·实验条件 | 第77-78页 |
| ·二氧化碳的氖基质光谱 | 第78-81页 |
| ·二氧化碳的氢基质光谱 | 第81-97页 |
| ·谱带的归属和基质谱带位移的同位素效应 | 第82-84页 |
| ·ν3振动带的精细结构 | 第84-89页 |
| ·温度变化对二氧化碳基质光谱的影响 | 第89-91页 |
| ·正氢浓度变化对二氧化碳基质光谱的影响 | 第91-94页 |
| ·小结 | 第94-97页 |
| 参考文献 | 第97-109页 |
| 附录I 固态氢中的光谱跃迁 | 第109-120页 |
| 附录 I～参考文献 | 第119-120页 |
| 致谢 | 第120-121页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第121-123页 |