| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-27页 |
| ·概述 | 第10-11页 |
| ·生物矿化 | 第11-14页 |
| ·生物矿化的概念 | 第11页 |
| ·生物矿化材料 | 第11-13页 |
| ·生物矿化的特点 | 第13页 |
| ·生物矿化的过程 | 第13-14页 |
| ·仿生合成 | 第14-17页 |
| ·仿生合成的概念 | 第14-15页 |
| ·仿生合成材料的研究现状 | 第15-16页 |
| ·仿生合成材料的应用前景 | 第16页 |
| ·仿生合成的研究意义 | 第16-17页 |
| ·关于二氧化硅仿生合成的研究 | 第17-21页 |
| ·自然界中二氧化硅的沉积 | 第17-18页 |
| ·二氧化硅仿生合成的研究现状 | 第18-21页 |
| ·研究内容及意义 | 第21-22页 |
| ·本研究的技术路线 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-27页 |
| 第2章 R_5肽介导仿生合成纳米硅材料 | 第27-44页 |
| ·实验部分 | 第27-29页 |
| ·试剂和仪器 | 第27-28页 |
| ·硅沉淀实验 | 第28页 |
| ·物理化学因素对R_5肽介导反应的影响 | 第28页 |
| ·样品的表征方法 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-38页 |
| ·多肽的介导作用 | 第29-30页 |
| ·各种物理化学因素对产物形貌的影响 | 第30-36页 |
| ·红外光谱分析 | 第36-37页 |
| ·X射线能谱(EDS)分析 | 第37页 |
| ·热失重分析 | 第37-38页 |
| ·反应机理讨论 | 第38-40页 |
| ·结论 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第3章 多聚赖氨酸介导合成硅材料 | 第44-54页 |
| ·实验部分 | 第44-46页 |
| ·试剂与仪器 | 第44-45页 |
| ·硅沉淀实验 | 第45页 |
| ·电场作用下制备硅材料实验 | 第45-46页 |
| ·样品表征 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-50页 |
| ·多聚赖氨酸的分子量对硅材料形貌的影响 | 第46-48页 |
| ·电场作用对硅化过程的影响 | 第48页 |
| ·多聚赖氨酸在电极(ITO)表面的沉积 | 第48-49页 |
| ·红外光谱分析 | 第49-50页 |
| ·EDS分析(X射线能量色散谱) | 第50页 |
| ·机理讨论 | 第50-51页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 第4章 原子力显微镜原位跟踪多肽介导的硅的形成过程 | 第54-68页 |
| ·原子力显微镜介绍及原理 | 第54-57页 |
| ·原子力显微镜介绍 | 第54页 |
| ·原子力显微镜的工作原理 | 第54-55页 |
| ·原子力显微镜液相工作模式介绍 | 第55-57页 |
| ·实验部分 | 第57-59页 |
| ·试剂和仪器 | 第57-58页 |
| ·实验过程 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-64页 |
| ·AFM原位跟踪多聚赖氨酸介导硅的仿生合成过程 | 第59-62页 |
| ·加电场后，AFM原位跟踪多聚赖氨酸介导硅的仿生合成过程 | 第62-64页 |
| ·机理讨论 | 第64-65页 |
| ·结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第5章 结论及工作展望 | 第68-70页 |
| ·结论 | 第68-69页 |
| ·工作展望 | 第69-70页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 致谢语 | 第71页 |