摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-10页 |
第一章 综述 | 第10-22页 |
·化学发光法的基本原理 | 第10-15页 |
·概述 | 第10页 |
·化学发光的基本原理 | 第10-11页 |
·化学发光的类型 | 第11-12页 |
·化学发光分析法的特点及应用 | 第12页 |
·常见的化学发光体系 | 第12-15页 |
·化学发光的研究进展 | 第15-16页 |
·化学发光与其他技术的联用 | 第16-19页 |
·化学发光与流动注射技术的联用 | 第16-17页 |
·化学发光与高效液相色谱联用 | 第17-18页 |
·化学发光与毛细管电泳技术联用 | 第18-19页 |
·分子印迹技术 | 第19页 |
·化学发光在药物分析中的应用研究 | 第19-20页 |
·化学发光法在金属离子测定中的应用 | 第20-21页 |
·论文研究意义及目的 | 第21-22页 |
第二章 高锰酸钾-罗丹明6G体系测定原儿茶醛 | 第22-32页 |
·引言 | 第22页 |
·实验部分 | 第22-24页 |
·仪器和试剂 | 第22-23页 |
·实验方法 | 第23-24页 |
·结果与讨论 | 第24-29页 |
·体系优化 | 第24-26页 |
·参数优化 | 第26页 |
·标准曲线 | 第26-27页 |
·干扰实验 | 第27-28页 |
·样品分析 | 第28-29页 |
·化学发光机理初探 | 第29-30页 |
·结论 | 第30-32页 |
第三章 鲁米诺-铁氰化钾体系测定阿魏酸 | 第32-40页 |
·引言 | 第32页 |
·实验部分 | 第32-33页 |
·仪器及试剂 | 第32-33页 |
·实验方法 | 第33页 |
·结果与讨论 | 第33-37页 |
·机理探讨 | 第37-40页 |
第四章 鲁米诺-铁氰化钾体系后化学发光反应测定新霉素 | 第40-48页 |
·引言 | 第40页 |
·实验部分 | 第40-41页 |
·仪器与试剂 | 第40页 |
·实验方法 | 第40-41页 |
·结果与讨论 | 第41-45页 |
·新霉素的后化学发光动力学曲线 | 第41-42页 |
·测定条件的选择 | 第42-45页 |
·标准曲线、精密度和检出限 | 第45页 |
·干扰试验 | 第45页 |
·样品分析 | 第45-46页 |
·后化学发光反应的机理 | 第46-48页 |
第五章 鲁米诺-高锰酸钾体系后化学发光反应测定镉 | 第48-54页 |
·引言 | 第48页 |
·实验部分 | 第48-49页 |
·仪器及试剂 | 第48页 |
·实验方法 | 第48-49页 |
·结果与讨论 | 第49-53页 |
·镉离子的后化学发光现象 | 第49-50页 |
·实验条件优化 | 第50-52页 |
·标准曲线、精密度和检出限 | 第52-53页 |
·干扰实验 | 第53页 |
·合成样分析 | 第53页 |
·结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-66页 |
致谢 | 第66-68页 |
附录:硕士期间发表的论文题目 | 第68页 |