| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-15页 |
| 缩写词和代号说明 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-42页 |
| ·前言 | 第16-17页 |
| ·镁合金常见的表面防护方法 | 第17-18页 |
| ·等离子体简介 | 第18-20页 |
| ·等离子体化学及等离子体电解 | 第19页 |
| ·等离子体增强的物理化学作用 | 第19-20页 |
| ·等离子体电解氧化技术 | 第20-37页 |
| ·等离子体电解氧化工艺的特点 | 第21-22页 |
| ·等离子体电解氧化技术的发展历史及研究现状 | 第22-36页 |
| ·等离子体电解氧化技术的发展历史 | 第22-23页 |
| ·等离子体电解氧化基体材料 | 第23页 |
| ·等离子体电解氧化常见电解液 | 第23-25页 |
| ·等离子体电解氧化电解液添加剂 | 第25-26页 |
| ·等离子体电解氧化工艺控制研究 | 第26页 |
| ·等离子体电解氧化膜的表面特征及组织分布规律 | 第26-27页 |
| ·等离子体电解氧化膜层性能的主要影响因素 | 第27-28页 |
| ·等离子体电解氧化过程物理化学效应 | 第28-29页 |
| ·等离子体电解氧化机理研究进展 | 第29-34页 |
| ·等离子体电解过程等离子体诊断 | 第34-36页 |
| ·等离子体电解氧化技术的应用及展望 | 第36-37页 |
| ·本论文的研究内容和创新性 | 第37-42页 |
| ·本论文的研究内容 | 第38-40页 |
| ·本论文的特色与创新 | 第40-42页 |
| 第二章 实验材料与实验方法 | 第42-51页 |
| ·实验材料与试件处理方法 | 第42-43页 |
| ·实验材料 | 第42页 |
| ·实验试剂 | 第42-43页 |
| ·试件前处理方法 | 第43页 |
| ·实验装置 | 第43-46页 |
| ·等离子体电解氧化电源 | 第43-45页 |
| ·数据采集系统 | 第45页 |
| ·实验装置图 | 第45-46页 |
| ·测试方法 | 第46-51页 |
| ·等离子体电解氧化陶瓷膜层相组成和结构分析 | 第46-47页 |
| ·陶瓷膜层形貌观察 | 第46页 |
| ·陶瓷膜相组成分析 | 第46页 |
| ·陶瓷膜层厚度测试 | 第46-47页 |
| ·陶瓷膜层的电化学分析测试 | 第47-48页 |
| ·极化曲线评价膜层试样耐均匀腐蚀性能 | 第48页 |
| ·动电位阳极扫描曲线评价膜层试样耐点腐蚀性能 | 第48页 |
| ·陶瓷膜层的电化学阻抗谱(EIS)分析 | 第48页 |
| ·PEO过程等离子体放电火花的成分测试 | 第48-49页 |
| ·PEO过程电极表面状态演变分析 | 第49页 |
| ·电解液中镁离子溶出量的分析 | 第49页 |
| ·分析方法 | 第49页 |
| ·标准曲线建立 | 第49页 |
| ·样品分析 | 第49页 |
| ·电解液pH值及电导率分析 | 第49-50页 |
| ·电解液透过率的分析 | 第50-51页 |
| 第三章 电解液阴离子性质对PEO过程介质阻挡层形成、击穿放电及离子迁移的影响 | 第51-67页 |
| ·电解液对放电特性的影响 | 第51-58页 |
| ·电解液阴离子对介质阻挡层形成膜的性质的影响 | 第58-64页 |
| ·电解液中形成介质阻挡层的成分 | 第58-59页 |
| ·电解液中形成介质阻挡层成分的稳定性 | 第59-61页 |
| ·电解液中形成介质阻挡层的致密性(电流密度评价) | 第61-63页 |
| ·电解液中形成介质阻挡层致密性对基体溶出影响 | 第63-64页 |
| ·电解液阴离子性质对PEO过程放电特性影响的机理分析 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第四章 K_2ZrF_6电解液阴离子稳定性对介质阻挡层形成、放电特性及膜性能的影响 | 第67-78页 |
| ·电解液阴离子稳定性对放电特性影响 | 第68-69页 |
| ·电解液中阴离子水解和电离对电解液稳定性的影响 | 第69-70页 |
| ·电解液阴离子的稳定性 | 第70-71页 |
| ·膜表面及截面形貌 | 第71-73页 |
| ·膜晶相及元素组成 | 第73-75页 |
| ·电解液阴离子稳定性对膜腐蚀性能的影响 | 第75-76页 |
| ·膜层各方面性质与电解液阴离子稳定性的关系 | 第76页 |
| ·电解液阴离子稳定性对放电火花中等离子体活性物种成分的影响 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 PEO过程等离子体活性组分演变及击穿放电机理 | 第78-105页 |
| ·各种电解液在PEO过程不同阶段的光谱变化 | 第78-91页 |
| ·同一时刻各活性物种光谱随PEO过程的变化 | 第78-84页 |
| ·单个活性物种光谱随时间的变化情况 | 第84-86页 |
| ·PEO过程击穿放电及生长过程模型 | 第86-88页 |
| ·PEO过程等离子体场内的传热及物质传递过程模型 | 第88-91页 |
| ·放电阶段活性物种被激发顺序与等离子体场内能量关系及阴阳离子贡献 | 第91-97页 |
| ·活性物质被激发的顺序与等离子体场内能量状态的关系 | 第91-95页 |
| ·等离子体场内的电子温度 | 第95-96页 |
| ·等离子体场核心区的电子密度 | 第96页 |
| ·电解液中的阴阳离子在PEO过程中的作用 | 第96-97页 |
| ·PEO放电火花外观的演变 | 第97-98页 |
| ·PEO陶瓷膜的平面及截面生长过程示意图 | 第98-100页 |
| ·等离子体活性物种的来源和能级跃迁 | 第100-103页 |
| ·H_2O和H活性粒子的来源和跃迁 | 第100-102页 |
| ·O活性粒子的来源和跃迁 | 第102-103页 |
| ·OH活性粒子的来源和跃迁 | 第103页 |
| ·本章小结 | 第103-105页 |
| 第六章 优化工艺条件下恒压及程序升压生长过程 | 第105-124页 |
| ·工艺参数优化设计 | 第105-108页 |
| ·设计田口正交矩阵和信噪比分析 | 第105-106页 |
| ·PEO膜的耐腐蚀性能 | 第106页 |
| ·最佳实验工艺 | 第106-108页 |
| ·较优工艺条件下恒压生长过程研究 | 第108-115页 |
| ·生长过程放电特性研究 | 第108-109页 |
| ·生长过程表面形貌的变化 | 第109-112页 |
| ·生长过程膜表面元素成分的变化 | 第112-113页 |
| ·生长过程电解液中镁离子溶出量的变化 | 第113页 |
| ·生长过程腐蚀性能的变化 | 第113-115页 |
| ·耐均匀腐蚀-极化曲线 | 第114页 |
| ·耐点腐蚀-动电位阳极扫描曲线 | 第114-115页 |
| ·程序升压方式对介质阻挡层形成及生长过程的影响 | 第115-123页 |
| ·程序升压对PEO过程放电特性的影响 | 第115-116页 |
| ·程序升压对PEO过程生成介质阻挡层形貌及膜层形貌的影响 | 第116-118页 |
| ·程序升压对膜层表面元素成分分布的影响 | 第118-119页 |
| ·程序升压对电解液中镁离子溶出量的影响 | 第119-120页 |
| ·不同电压模式下生成膜层的耐腐蚀性能变化 | 第120-121页 |
| ·程序升压条件下不同阶段膜层交流阻抗 | 第121-123页 |
| ·本章小结 | 第123-124页 |
| 结论与展望 | 第124-127页 |
| 参考文献 | 第127-148页 |
| 第一章参考文献 | 第127-143页 |
| 第三章参考文献 | 第143-144页 |
| 第四章参考文献 | 第144-145页 |
| 第五章参考文献 | 第145-147页 |
| 第六章参考文献 | 第147-148页 |
| 攻读博士学位期间取得的研究成果 | 第148-150页 |
| 致谢 | 第150-151页 |
| 辩委员会对论文的评定意见 | 第151页 |
