| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 课题背景 | 第11页 |
| 1.2 光催化 | 第11-15页 |
| 1.2.1 光催化简介 | 第11页 |
| 1.2.2 半导体光催化反应的基本原理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 影响半导体材料光催化性能的因素 | 第12-13页 |
| 1.2.4 提高半导体光催化剂催化性能的方法 | 第13-15页 |
| 1.3 铋系半导体材料 | 第15-23页 |
| 1.3.1 铋系半导体化合物的概述 | 第15-16页 |
| 1.3.2 Bi_2WO_6光催化剂的结构及性质 | 第16-23页 |
| 1.4 本课题研究内容及意义 | 第23-24页 |
| 1.4.1 本课题研究内容 | 第23页 |
| 1.4.2 本课题研究意义 | 第23-24页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第24-31页 |
| 2.1 实验材料 | 第24页 |
| 2.2 仪器及测试设备 | 第24-26页 |
| 2.3 样品的表征和测试方法 | 第26-29页 |
| 2.3.1 X-射线衍射（XRD）分析 | 第26-27页 |
| 2.3.2 扫描电镜（SEM）分析 | 第27页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜（TEM）、高分辨电子显微镜（HRTEM） | 第27页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第27-28页 |
| 2.3.5 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第28页 |
| 2.3.6 比表面测定(BET) | 第28页 |
| 2.3.7 紫外-可见漫反射(UV-Vis DRS)分析 | 第28-29页 |
| 2.3.8 荧光光谱(PL)分析 | 第29页 |
| 2.3.9 光电化学性能测试 | 第29页 |
| 2.4 光催化性能研究 | 第29-31页 |
| 第3章 片状Bi_2WO_6的合成及表征 | 第31-58页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 片状Bi_2WO_6的合成与表征 | 第31-55页 |
| 3.2.1 熔盐法快速合成片状Bi_2WO_6 | 第31-34页 |
| 3.2.2 片状Bi_2WO_6的表征 | 第34-55页 |
| 3.3 合成机理初探 | 第55-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第4章 Bi_2WO_6的光催化性能研究 | 第58-70页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 光催化剂降解罗丹明B(RhB) | 第58-66页 |
| 4.2.1 罗丹明B最大吸收波长的选取 | 第58-59页 |
| 4.2.2 空白试验 | 第59-62页 |
| 4.2.3 Bi_2WO_6光催化剂的光催化性能测试 | 第62-66页 |
| 4.3 光催化降解机理初探 | 第66-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
