| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 前言 | 第14-38页 |
| 1.1 圆偏振发光材料的研究背景 | 第14-24页 |
| 1.1.1 中心手性CPL有机小分子 | 第15-16页 |
| 1.1.2 轴手性CPL有机小分子 | 第16-19页 |
| 1.1.3 面手性CPL有机小分子 | 第19-22页 |
| 1.1.4 螺手性CPL有机小分子 | 第22-24页 |
| 1.2 基于碳[5]螺烯骨架有机发光小分子的研究现状 | 第24-27页 |
| 1.3 含三芳基硼结构的有机光电功能分子的研究现状 | 第27-36页 |
| 1.3.1 硼氮线形排列的π体系 | 第29-30页 |
| 1.3.2 硼位于侧链的π体系 | 第30-32页 |
| 1.3.3 硼嵌入的多环及大环π体系 | 第32-34页 |
| 1.3.4 硼氮桥联的梯形π体系 | 第34页 |
| 1.3.5 硼氮修饰的联萘π体系 | 第34-35页 |
| 1.3.6 非共轭的U形和V形π体系 | 第35-36页 |
| 1.3.7 硼氮修饰的[2,2]环仿π体系 | 第36页 |
| 1.4 本论文的选题背景及研究内容 | 第36-38页 |
| 第二章 硼、氮修饰的[5]螺烯衍生物的合成及性质研究 | 第38-57页 |
| 2.1 引言 | 第38页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第38-50页 |
| 2.2.1 目标产物的合成路线 | 第38-40页 |
| 2.2.2 化合物的结构分析 | 第40-43页 |
| 2.2.3 目标产物的光学性质 | 第43-46页 |
| 2.2.4 理论计算 | 第46-48页 |
| 2.2.5 氟离子对化合物荧光的影响 | 第48-50页 |
| 2.3 结论 | 第50页 |
| 2.4 实验部分 | 第50-57页 |
| 2.4.1 实验试剂与测试仪器 | 第50-51页 |
| 2.4.2 化合物的合成 | 第51-57页 |
| 第三章 硼、氮修饰的具有CPL特性的[5]螺烯衍生物的合成及性质研究 | 第57-66页 |
| 3.1 引言 | 第57页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第57-61页 |
| 3.2.1 目标产物的合成路线 | 第57-58页 |
| 3.2.2 化合物的结构分析 | 第58-59页 |
| 3.2.3 目标产物的光学性质 | 第59-61页 |
| 3.2.4 理论计算 | 第61页 |
| 3.3 结论 | 第61-62页 |
| 3.4 实验部分 | 第62-66页 |
| 3.4.1 实验试剂与测试仪器 | 第62页 |
| 3.4.2 化合物的合成 | 第62-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 附录一 核磁谱图 | 第71-91页 |
| 附录二 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第93页 |
