摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第11-23页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 AlN陶瓷的晶体结构及性能参数 | 第11-12页 |
1.3 AlN陶瓷的特性、应用及发展概况 | 第12-15页 |
1.3.1 AlN陶瓷的发展概况 | 第12-13页 |
1.3.2 AlN陶瓷的特性及应用 | 第13-15页 |
1.4 AlN陶瓷制备工艺的研究现状 | 第15-18页 |
1.4.1 AlN粉体的制备方法 | 第15-16页 |
1.4.2 AlN坯体的成型技术 | 第16-17页 |
1.4.3 AlN陶瓷的烧结技术 | 第17-18页 |
1.5 导热机理及影响热导率的主要因素 | 第18-20页 |
1.5.1 导热机理 | 第18-19页 |
1.5.2 AlN陶瓷热导率的影响因素 | 第19-20页 |
1.6 AlN陶瓷热导率及低温烧结的研究现状 | 第20-22页 |
1.7 课题的提出与研究内容 | 第22-23页 |
2 实验原料及性能表征 | 第23-27页 |
2.1 实验原料及设备 | 第23-24页 |
2.1.1 实验原料 | 第23页 |
2.1.2 实验设备 | 第23-24页 |
2.2 制备工艺 | 第24-25页 |
2.3 结果表征 | 第25-27页 |
2.3.1 密度测试 | 第25页 |
2.3.2 X射线衍射分析 | 第25页 |
2.3.3 形貌分析 | 第25页 |
2.3.4 傅里叶红外光谱分析 | 第25页 |
2.3.5 激光粒度分析 | 第25-26页 |
2.3.6 介电性能分析 | 第26页 |
2.3.7 热导率分析 | 第26-27页 |
3 单掺LaF_3对AlN陶瓷性能的影响 | 第27-40页 |
3.1 引言 | 第27页 |
3.2 实验方案 | 第27-28页 |
3.3 AlN陶瓷烧结工艺的确定 | 第28-32页 |
3.3.1 不同升温速率的AlN陶瓷致密度 | 第28-30页 |
3.3.2 不同保温时间的AlN陶瓷致密度 | 第30页 |
3.3.3 不同烧结温度的AlN陶瓷致密度 | 第30-31页 |
3.3.4 掺杂量对AlN陶瓷致密度的影响 | 第31-32页 |
3.4 烧结体的物相分析 | 第32-33页 |
3.5 烧结体的断面形貌分析 | 第33-35页 |
3.6 烧结体的晶粒尺寸分析 | 第35-36页 |
3.7 烧结体的热导率分析 | 第36-37页 |
3.8 烧结体的介电性能分析 | 第37-39页 |
3.9 本章小结 | 第39-40页 |
4 掺杂Y_2O_3(CaO)-LaF_3对AlN陶瓷性能的影响 | 第40-60页 |
4.1 引言 | 第40-42页 |
4.2 实验方案 | 第42页 |
4.3 AlN陶瓷致密度的分析 | 第42-46页 |
4.3.1 掺杂CaO-LaF_3的AlN陶瓷致密度 | 第43页 |
4.3.2 掺杂Y_2O_3-LaF_3的AlN陶瓷致密度 | 第43-45页 |
4.3.3 不同烧结助剂的AlN陶瓷致密度 | 第45-46页 |
4.4 烧结体的物相分析 | 第46-49页 |
4.5 烧结体的断面形貌分析 | 第49-52页 |
4.6 烧结体的晶粒尺寸分析 | 第52-55页 |
4.7 烧结体的热导率分析 | 第55-57页 |
4.8 AlN陶瓷的介电性能分析 | 第57-58页 |
4.9 本章小结 | 第58-60页 |
5 水分对AlN陶瓷热导率的影响 | 第60-68页 |
5.1 引言 | 第60页 |
5.2 实验方案 | 第60-61页 |
5.3 粉体的性能分析 | 第61-64页 |
5.3.1 粉体的XRD分析 | 第61-62页 |
5.3.2 粉体的粒度分析 | 第62-63页 |
5.3.3 粉体的形貌分析 | 第63页 |
5.3.4 粉体的红外光谱分析 | 第63-64页 |
5.4 烧结体的性能分析 | 第64-66页 |
5.4.1 烧结体的XRD分析 | 第65页 |
5.4.2 烧结体的断面形貌分析 | 第65-66页 |
5.4.3 烧结体的热导率分析 | 第66页 |
5.7 本章小结 | 第66-68页 |
6 总结 | 第68-70页 |
6.1 本文结论 | 第68-69页 |
6.2 本文创新点 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
参考文献 | 第71-77页 |
附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第77页 |