摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-23页 |
1.1 研究背景 | 第10-16页 |
1.1.1 激光诱导击穿光谱技术简介 | 第10-11页 |
1.1.2 飞秒激光诱导击穿光谱技术简介 | 第11-12页 |
1.1.3 激光诱导击穿光谱技术的优点 | 第12-13页 |
1.1.4 激光诱导击穿光谱技术的广泛应用 | 第13-16页 |
1.2 国内外LIBS技术研究进展 | 第16-18页 |
1.2.1 国外LIBS技术研究进展 | 第17-18页 |
1.2.2 国内LIBS技术研究进展 | 第18页 |
1.3 LIBS技术目前存在的不足 | 第18-19页 |
1.4 LIBS光谱增强方法 | 第19-22页 |
1.4.1 双脉冲技术 | 第19-21页 |
1.4.2 磁约束技术 | 第21页 |
1.4.3 空间约束技术 | 第21-22页 |
1.5 本论文的主要研究内容及框架 | 第22-23页 |
第二章 激光诱导击穿光谱技术的理论背景 | 第23-28页 |
2.1 激光诱导等离子体的定义 | 第23页 |
2.2 激光诱导等离子体的形成过程 | 第23-25页 |
2.3 激光诱导等离子体辐射机制 | 第25-26页 |
2.4 激光诱导等离子体模型 | 第26-27页 |
2.5 描述等离子体的参数 | 第27-28页 |
第三章 温度对飞秒激光诱导锗等离子体的影响研究 | 第28-38页 |
3.1 研究背景 | 第28-29页 |
3.2 实验装置 | 第29-31页 |
3.2.1 飞秒单脉冲LIBS的实验装置示意图 | 第29-30页 |
3.2.2 瞬时反射率测量实验装置示意图 | 第30-31页 |
3.3 结果与讨论 | 第31-37页 |
3.3.1 不同激光能量密度下锗光谱强度随温度的变化 | 第31-33页 |
3.3.2 不同激光波长下锗光谱强度随温度的变化 | 第33-34页 |
3.3.3 锗瞬时反射率随激光能量密度的变化 | 第34-36页 |
3.3.4 锗瞬时反射率随温度的变化 | 第36-37页 |
3.4 本章小结 | 第37-38页 |
第四章 飞秒激光诱导铜等离子体的空间约束效应 | 第38-47页 |
4.1 研究背景 | 第38-39页 |
4.2 实验装置 | 第39-40页 |
4.3 结果与讨论 | 第40-46页 |
4.3.1 空间约束下LIBS光谱强度的变化 | 第40-42页 |
4.3.2 空间约束下光谱发射强度随时间的变化研究 | 第42-44页 |
4.3.3 不同腔体高度对空间约束效应的影响 | 第44-45页 |
4.3.4 不同约束条件下铜等离子体发射光谱的加强比 | 第45-46页 |
4.4 本章小结 | 第46-47页 |
第五章 总结与展望 | 第47-49页 |
5.1 总结 | 第47页 |
5.2 展望 | 第47-49页 |
参考文献 | 第49-55页 |
作者简介 | 第55-57页 |
致谢 | 第57-58页 |