缩略语表 | 第1-6页 |
目录 | 第6-10页 |
图目录 | 第10-13页 |
表目录 | 第13-14页 |
摘要 | 第14-16页 |
ABSTRACT | 第16-19页 |
第一章 绪论 | 第19-45页 |
·含硅聚合物简介 | 第20-23页 |
·聚硅氮烷无机化的研究进展 | 第23-30页 |
·PSZ高温热解制备Si_3N_4/Si_xC_yN_z陶瓷 | 第23-27页 |
·PSZ水解制备SiO_x/silicate陶瓷 | 第27-30页 |
·PSZ的光固化改性和应用进展 | 第30-35页 |
·PSZ和光固化技术 | 第30-32页 |
·PSZ的光固化改性 | 第32-35页 |
·微/纳米加工技术 | 第35-41页 |
·光刻技术 | 第35-37页 |
·纳米立体成型技术 | 第37-38页 |
·纳米压印技术 | 第38-39页 |
·刻蚀 | 第39-41页 |
·课题的提出和研究内容 | 第41-45页 |
第二章 光固化聚硅氮烷的合成和表征 | 第45-61页 |
·MPVSZ的合成和性能 | 第45-51页 |
·聚乙烯基硅氮烷 | 第45-47页 |
·MPVSZ的合成 | 第47-48页 |
·MPVSZ的结构 | 第48-50页 |
·MPVSZ的紫外吸收性能 | 第50-51页 |
·MPHPS的合成和性能 | 第51-58页 |
·全氢聚硅氮烷 | 第51页 |
·MPHPS的合成 | 第51-53页 |
·MPHPS的结构 | 第53-56页 |
·MPHPS的光固化性能 | 第56-58页 |
·分析测试方法 | 第58-60页 |
·结构表征 | 第58-59页 |
·形貌和性能表征 | 第59-60页 |
·小结 | 第60-61页 |
第三章 基于MPVSZ制备新型高选择性硅刻蚀掩膜 | 第61-93页 |
·硅刻蚀掩膜 | 第61-63页 |
·实验部分 | 第63-68页 |
·MPVSZ光固化体系配制 | 第64页 |
·旋涂成膜 | 第64-65页 |
·光刻成型 | 第65页 |
·水解处理 | 第65-66页 |
·干法刻蚀 | 第66页 |
·压印成型 | 第66-68页 |
·表征 | 第68页 |
·光刻法制备MPVSZ微结构 | 第68-74页 |
·MPVSZ光固化体系 | 第68-69页 |
·MPVSZ的光刻成型 | 第69-74页 |
·MPVSZ微结构的水解转化 | 第74-83页 |
·后烘过程对MPVSZ水解的影响 | 第75-76页 |
·光固化MPVSZ的水解机理 | 第76-83页 |
·基于MPVSZ的微结构掩膜的抗蚀性能比较 | 第83-90页 |
·固化MPVSZ微结构的抗蚀研究 | 第83-85页 |
·高温热处理MPVSZ微结构的抗蚀研究 | 第85-87页 |
·水解MPVSZ微结构的抗蚀研究 | 第87-90页 |
·刻蚀残余掩膜的移除讨论 | 第90页 |
·压印法制备MPVSZ Sub-100 nm结构 | 第90-91页 |
·小结 | 第91-93页 |
第四章 基于MPVSZ制备耐化学溶剂刚性微混合器系统 | 第93-114页 |
·微混合和微混合器 | 第94-96页 |
·微尺度下混合的基本特征 | 第94页 |
·微混合器 | 第94-96页 |
·实验部分 | 第96-104页 |
·Y形PDMSO微通道构件制备 | 第96-98页 |
·MPVSZ光固化体系配制 | 第98页 |
·玻璃片表面处理 | 第98-100页 |
·微混合器的掩膜图案设计 | 第100页 |
·嵌入混合器结构的微流控系统制备 | 第100-102页 |
·混合效率分析 | 第102-103页 |
·耐溶剂性检测 | 第103页 |
·表征 | 第103-104页 |
·SLP方法制备P-SHM微混合器系统 | 第104-110页 |
·MPVSZ芯片构件的制备和水解转化 | 第104-107页 |
·PDMSO芯片构件的表面涂层改性 | 第107-108页 |
·微混合器芯片的封接 | 第108-110页 |
·P-SHM系统的混合效率分析 | 第110-112页 |
·P-SHM系统的耐溶剂性分析 | 第112-113页 |
·小结 | 第113-114页 |
第五章 基于MPHPS制备Si-O高硬微/纳米结构压印模板 | 第114-131页 |
·微/纳米结构压印模板 | 第114-116页 |
·实验部分 | 第116-118页 |
·MPHPS光固化体系配制 | 第116页 |
·Hard-PDMSO模板制备 | 第116-117页 |
·微/纳米结构的制备和水解转化 | 第117-118页 |
·表征 | 第118页 |
·压印法制备MPHPS微/纳米结构 | 第118-121页 |
·MPHPS光固化体系 | 第118-119页 |
·MPHPS的压印成型 | 第119-121页 |
·固化MPHPS的水解转化机理 | 第121-127页 |
·MPHPS转化的Si-O模板研究 | 第127-130页 |
·宏观形貌 | 第127-128页 |
·力学性能 | 第128-129页 |
·表面性能 | 第129-130页 |
·小结 | 第130-131页 |
第六章 基于MPVSZ微结构的碳纳米管改性 | 第131-150页 |
·CNT在微结构中的作用 | 第131-135页 |
·CNT的批量制备 | 第135-141页 |
·CNT制备反应炉的设计 | 第135-137页 |
·CNT的制备和表征 | 第137-141页 |
·CNT在MPVSZ中的分散研究 | 第141-143页 |
·CNT的化学改性 | 第141-142页 |
·改性CNT和MPVSZ的共混 | 第142-143页 |
·CNT/MPVSZ微结构制备及其无机化 | 第143-149页 |
·CNT/MPVSZ的光刻成型 | 第143-146页 |
·CNT/MPVSZ复合微结构的水解转化和性能研究 | 第146-149页 |
·小结 | 第149-150页 |
第七章 结论与展望 | 第150-154页 |
致谢 | 第154-156页 |
参考文献 | 第156-167页 |
作者攻读博士学位期间取得的学术成果 | 第167-168页 |