| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| ·纳米技术与纳米材料 | 第8-9页 |
| ·稀土纳米发光材料简介 | 第9-11页 |
| ·稀土发光材料的性能特点 | 第9-10页 |
| ·稀土纳米粉体材料制备技术 | 第10-11页 |
| ·纳米介孔材料简介 | 第11页 |
| ·纳米介孔材料的合成 | 第11-12页 |
| ·选题的意义与主要工作 | 第12-14页 |
| 第2章 稀土掺杂发光材料前体(Gd(OH)_3:Eu~(3+))的合成 | 第14-18页 |
| ·实验部分 | 第14-17页 |
| ·Gd(OH)_3:Eu~(3+)的制备 | 第14页 |
| ·Gd(OH)_3:Eu~(3+)的扫描电镜表征 | 第14-15页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)的粒径分布图 | 第15页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)的高分辨透射电镜表征 | 第15-16页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)发光内核的XRD表征 | 第16页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)发光内核的光谱表征 | 第16-17页 |
| ·本章小结 | 第17-18页 |
| 第3章 介孔二氧化硅的包覆研究 | 第18-27页 |
| ·实验部分 | 第18-26页 |
| ·介孔二氧化硅的包覆 | 第18页 |
| ·介孔二氧化硅壳层结构的测试与表征 | 第18-21页 |
| ·扫描及透射电子显微镜测试 | 第18-19页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2的粒径分布图 | 第19-20页 |
| ·小角XRD测试 | 第20页 |
| ·氮吸附测试 | 第20-21页 |
| ·介孔二氧化硅壳层形成机理探讨 | 第21页 |
| ·反应条件的影响 | 第21-26页 |
| ·醇水比例的影响 | 第21-23页 |
| ·正硅酸乙酯用量的影响 | 第23-25页 |
| ·正硅酸乙酯加入速度的影响 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第4章 Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2材料的性质及药物缓释应用研究 | 第27-35页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2的光谱性质 | 第27-28页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2的荧光寿命研究 | 第28-30页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2的广角XRD表征 | 第30页 |
| ·Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2的药物缓释应用研究 | 第30-34页 |
| ·实验部分 | 第30页 |
| ·IBU-Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2红外吸收光谱 | 第30-31页 |
| ·IBU-Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2氮吸附曲线 | 第31-32页 |
| ·IBU-Gd_2O_3:Eu~(3+)@ SiO_2缓释曲线 | 第32-33页 |
| ·IBU装填时间与发光强度和装填量的关系 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第5章 总结与展望 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-39页 |
| 致谢 | 第39-40页 |
| 摘要 | 第40-42页 |
| Abstract | 第42-44页 |
