| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-13页 |
| 1.2 选通器的发展和研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3 选通器结构简介 | 第15-19页 |
| 1.3.1 MIM(metal-insulator-metal) | 第15-16页 |
| 1.3.2 MSM和MIS | 第16-17页 |
| 1.3.3 NPN | 第17-18页 |
| 1.3.4 NIPIN | 第18页 |
| 1.3.5 MIEC (Mixed Ionic Electronic Conduction) | 第18-19页 |
| 1.4 文章的框架和研究意义 | 第19-21页 |
| 第二章 选通器的工作原理 | 第21-29页 |
| 2.1 选通器的基本结构 | 第21-22页 |
| 2.2 选通器的性能参数 | 第22-24页 |
| 2.3 选通器的工作原理 | 第24-27页 |
| 2.3.1 IMT(Insulate-Metal Transion) | 第25页 |
| 2.3.2 遂穿原理 | 第25-27页 |
| 2.4 本文小结 | 第27-29页 |
| 第三章 氧空位对选通器材料的非线性影响 | 第29-42页 |
| 3.1 模型和计算方法 | 第30-33页 |
| 3.2 厚度和氧缺陷对TiO_2非线性的影响 | 第33-38页 |
| 3.2.1 厚度对TiO_2非线性的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.2 TiO_2导通机理 | 第34-35页 |
| 3.2.3 氧缺陷对TiO_2非线性的影响 | 第35-38页 |
| 3.3 TiO_2掺杂氧空位的I-V曲线研究 | 第38-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 选通器中界面的电子特性分析 | 第42-50页 |
| 4.1 结构模型和计算方法 | 第42-44页 |
| 4.1.1 结构模型 | 第42-43页 |
| 4.1.2 计算方法 | 第43-44页 |
| 4.2 界面模型分析 | 第44-49页 |
| 4.2.1 界面模型的稳定性分析 | 第44-46页 |
| 4.2.2 界面模型的态密度分析 | 第46-47页 |
| 4.2.3 界面差分电荷密度和电势分析 | 第47-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 工作总结与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 工作总结 | 第50页 |
| 5.2 展望 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-60页 |
| 附图 | 第60-62页 |
| 附表 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第64页 |
