| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 石英 | 第10-13页 |
| 1.2 高纯石英砂 | 第13-14页 |
| 1.3 高纯石英沙发展现状 | 第14-16页 |
| 1.4 高纯石英砂研究现状 | 第16-23页 |
| 1.5 研究的目的和意义 | 第23-24页 |
| 1.6 研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验 | 第25-30页 |
| 2.1 实验原料 | 第25页 |
| 2.2 实验仪器设备与试剂 | 第25-26页 |
| 2.3 实验方法 | 第26-28页 |
| 2.4 实验表征方法 | 第28页 |
| 2.5 高纯石英砂制备原则工艺流程 | 第28-30页 |
| 第三章 偏硅酸钠溶液预处理与酸化沉淀制备偏硅酸实验研究 | 第30-43页 |
| 3.1 偏硅酸钠溶液的溶解 | 第30页 |
| 3.2 偏硅酸钠溶液的预处理 | 第30-36页 |
| 3.3 偏硅酸的制备 | 第36-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 偏硅酸的酸洗除杂实验研究 | 第43-56页 |
| 4.1 偏硅酸的盐酸酸洗除杂 | 第43-48页 |
| 4.2 偏硅酸超声波辅助酸洗除杂 | 第48-52页 |
| 4.3 偏硅酸的干燥处理 | 第52-54页 |
| 4.4 废酸的回收 | 第54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 高纯石英的制备及晶化过程实验研究 | 第56-68页 |
| 5.1 SiO_2的同质多象变体及晶型之间的转变 | 第56-58页 |
| 5.2 高纯二氧化硅的煅烧晶化 | 第58-64页 |
| 5.3 高纯二氧化硅结晶过程的TG-DSC分析 | 第64-65页 |
| 5.4 高纯石英的红外光谱分析 | 第65-66页 |
| 5.5 煅烧前后的纯度对比实验 | 第66页 |
| 5.6 本章小结 | 第66-68页 |
| 第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 结论 | 第68-69页 |
| 6.2 展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 附录A 研究生期间发表论文 | 第78页 |