| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 ZnO的基本结构、性能及应用 | 第9-13页 |
| 1.2.1 ZnO的基本结构 | 第9-11页 |
| 1.2.2 ZnO的性能 | 第11-12页 |
| 1.2.3 ZnO材料的应用 | 第12-13页 |
| 1.3 ZnO材料的掺杂 | 第13-15页 |
| 1.3.1 本征ZnO | 第13-14页 |
| 1.3.2 n型掺杂 | 第14-15页 |
| 1.3.3 p型掺杂 | 第15页 |
| 1.4 ZnO薄膜的制备 | 第15-17页 |
| 1.4.1 溶胶凝胶法 | 第15-16页 |
| 1.4.2 脉冲激光沉积法 | 第16页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第16页 |
| 1.4.4 电化学沉积法 | 第16-17页 |
| 1.4.5 磁控溅射法 | 第17页 |
| 1.5 ZnO纳米结构的研究进展 | 第17-19页 |
| 1.6 ZnO材料的表征技术 | 第19-23页 |
| 1.6.1 X射线衍射仪 | 第19-21页 |
| 1.6.2 扫描电子显微镜 | 第21页 |
| 1.6.3 透射电子显微镜 | 第21-22页 |
| 1.6.4 光致发光谱 | 第22页 |
| 1.6.5 紫外-可见-近红外分光光度计 | 第22-23页 |
| 第二章 Ga掺杂ZnO薄膜的制备及退火温度对薄膜性能的影响 | 第23-31页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 样品制备 | 第24-26页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第24-25页 |
| 2.2.2 清洗衬底 | 第25-26页 |
| 2.2.3 制备薄膜 | 第26页 |
| 2.2.4 薄膜的表征 | 第26页 |
| 2.3 退火温度对薄膜样品的影响 | 第26-30页 |
| 2.3.1 样品的形貌分析 | 第26-28页 |
| 2.3.2 样品的结构分析 | 第28-29页 |
| 2.3.3 样品的光学性能 | 第29-30页 |
| 2.4 结果与讨论 | 第30-31页 |
| 第三章 Ga掺杂ZnO纳米结构材料的制备 | 第31-41页 |
| 3.1 引言 | 第31-32页 |
| 3.2 样品制备过程 | 第32-33页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第32页 |
| 3.2.2 纳米结构的制备步骤 | 第32-33页 |
| 3.2.3 纳米结构的表征 | 第33页 |
| 3.3 反应温度对样品的影响 | 第33-38页 |
| 3.3.1 样品的形貌分析 | 第33-35页 |
| 3.3.2 样品的结构分析 | 第35-36页 |
| 3.3.3 样品的光学性能分析 | 第36-37页 |
| 3.3.4 样品的光电测试分析 | 第37-38页 |
| 3.3.5 结果与讨论 | 第38页 |
| 3.4 聚乙二醇对样品的影响 | 第38-41页 |
| 3.4.1 样品的形貌分析 | 第38-40页 |
| 3.4.2 结果与讨论 | 第40-41页 |
| 第四章 结论与展望 | 第41-43页 |
| 4.1 结论 | 第41-42页 |
| 4.2 展望 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-51页 |
| 发表论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |