| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 高温合金 | 第10页 |
| 1.2 Ni-Ni_3Al高温合金中的氢脆的研究 | 第10-12页 |
| 1.3 硼 | 第12-13页 |
| 1.4 Ni-Ni_3Al高温合金中的锆的研究 | 第13-15页 |
| 1.4.1 Ni-Ni_3Al高温合金中的抗氧化性能的研究 | 第13-14页 |
| 1.4.2 铬 | 第14页 |
| 1.4.3 铪 | 第14-15页 |
| 1.5 Ni-Ni_3Al中的错配度 | 第15页 |
| 1.6 主要工作内容和意义 | 第15-17页 |
| 第二章 计算方法 | 第17-27页 |
| 2.1 离散变分方法(DVM) | 第17-22页 |
| 2.1.1 离散变分方法的特点 | 第17-18页 |
| 2.1.2 一般公式及求解过程 | 第18-19页 |
| 2.1.3 数值积分 | 第19-21页 |
| 2.1.4 基函数的选择 | 第21-22页 |
| 2.2 势 | 第22-23页 |
| 2.2.1 库仑相互作用势 | 第22-23页 |
| 2.2.2 交换关联势 | 第23页 |
| 2.2.3 外界势 | 第23页 |
| 2.3 总能 | 第23-24页 |
| 2.4 化学键与电子结构表征 | 第24-27页 |
| 2.4.1 结合能（Binding Energy, BD） | 第25页 |
| 2.4.2 键序(Bond Order, BO)与原子间相互作用能 | 第25页 |
| 2.4.3 态密度（Density of State, DOS） | 第25-26页 |
| 2.4.4 晶体轨道重叠集居数(Crystal Orbital Overlap Population COOP) | 第26页 |
| 2.4.5 差分电荷密度（Electron Density Difference, EDD） | 第26-27页 |
| 第三章 Hf在Ni-Ni_3Al体系中的占位行为以及对体系延展性能的影响 | 第27-40页 |
| 3.1 研究背景 | 第27-28页 |
| 3.2. 计算方法及模型 | 第28-31页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第31-39页 |
| 3.3.1 错配度对Hf行为的影响 | 第31-35页 |
| 3.3.1.1 结合能分析 | 第31-32页 |
| 3.3.1.2 替换能分析 | 第32-35页 |
| 3.3.2 错配度和Hf对Ni-Ni_3Al体系的延展性的影响 | 第35-39页 |
| 3.4.结论 | 第39-40页 |
| 第四章 Hf对Ni-Ni_3Al体系中的O的占位行为的影响 | 第40-50页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 计算模型和计算方法 | 第40-42页 |
| 4.3 计算结果和讨论 | 第42-49页 |
| 4.3.1 无Hf时O自身的占位行为特点 | 第42-45页 |
| 4.3.2 有Hf时O的占位行为特点 | 第45-49页 |
| 4.4 结论 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-61页 |
| 发表论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
