摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 引言 | 第10页 |
1.2 扩展互作用速调管的产生和发展 | 第10-11页 |
1.3 扩展互作用速调管的国内外研究现状 | 第11-13页 |
1.4 扩展互作用速调管的发展趋势 | 第13页 |
1.5 本论文的主要工作 | 第13-16页 |
第二章W波段片状注扩展互作用速调管分布作用腔的设计 | 第16-33页 |
2.1 速调管的基本理论分析 | 第16-22页 |
2.1.1 电子注的速度调制和群聚 | 第16-20页 |
2.1.2 电子注与互作用间隙的耦合系数 | 第20-22页 |
2.2 分布作用腔的基本理论分析 | 第22-24页 |
2.2.1 分布作用腔的谐振条件 | 第22页 |
2.2.2 分布作用腔的特性阻抗 | 第22-24页 |
2.3 分布作用腔的设计 | 第24-31页 |
2.3.1 输入输出腔的设计 | 第25-29页 |
2.3.2 中间腔的设计 | 第29-31页 |
2.4 W波段片状注EIK工作点的选择 | 第31-32页 |
2.5 本章小结 | 第32-33页 |
第三章W波段片状注扩展互作用速调管的电子注聚焦 | 第33-44页 |
3.1 矩形电子注的空间电荷场 | 第33-35页 |
3.2 均匀场中片状电子注稳定传输理论与粒子模拟 | 第35-38页 |
3.2.1 均匀场中片状电子注稳定传输理论 | 第35-36页 |
3.2.2 均匀磁场聚束片状电子注的粒子模拟 | 第36-38页 |
3.3 周期磁场聚束片状电子注的理论分析与粒子模拟 | 第38-43页 |
3.3.1 PCM聚焦系统聚束片状电子注的理论分析 | 第38-40页 |
3.3.2 PCM-PQM聚焦系统结构分析 | 第40-42页 |
3.3.3 PCM和PCM-PQM聚焦系统聚束片状电子注的粒子模拟 | 第42-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-44页 |
第四章W波段片状注扩展互作用速调管的注波互作用 | 第44-62页 |
4.1 W波段片状注EIK双腔结构注波互作用模型的建立 | 第44-52页 |
4.1.1 输入输出结构 | 第44-48页 |
4.1.2 EIK双腔结构漂移管长度的选择 | 第48-52页 |
4.2 W波段片状注EIK双腔结构注波互作用结果分析 | 第52-56页 |
4.3 W波段片状注EIK三腔结构的注波互作用 | 第56-60页 |
4.4 本章小结 | 第60-62页 |
第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
5.1 论文总结 | 第62-63页 |
5.2 工作展望 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第68-69页 |