| 致谢 | 第5-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 1 绪论 | 第12-14页 |
| 2 文献综述 | 第14-28页 |
| 2.1 电解水制氢的意义 | 第14-17页 |
| 2.1.1 能源的现状 | 第14-15页 |
| 2.1.2 氢能的优点 | 第15页 |
| 2.1.3 氢气的制备方法 | 第15-17页 |
| 2.2 电解水的基本原理 | 第17-18页 |
| 2.3 析氢电化学基本理论 | 第18-20页 |
| 2.3.1 析氢过电势 | 第18-19页 |
| 2.3.2 析氢动力学参数 | 第19页 |
| 2.3.3 析氢反应机理 | 第19-20页 |
| 2.4 析氢催化剂概述 | 第20-22页 |
| 2.5 析氢催化剂的分类 | 第22-25页 |
| 2.5.1 单一金属催化剂在HER中的应用 | 第22-23页 |
| 2.5.2 二元合金或多元复合物催化剂在HER中的应用 | 第23-25页 |
| 2.6 本文的研究目的及内容 | 第25-28页 |
| 3 实验方法 | 第28-34页 |
| 3.1 原料、药品与设备 | 第28-29页 |
| 3.2 催化剂的物理表征 | 第29-31页 |
| 3.2.1 X射线衍射分析 | 第29-30页 |
| 3.2.2 X射线光电子能谱分析 | 第30页 |
| 3.2.3 X射线能谱分析 | 第30页 |
| 3.2.4 比表面积分析 | 第30页 |
| 3.2.5 透射电子显微镜分析 | 第30-31页 |
| 3.2.6 扫描电子显微镜分析 | 第31页 |
| 3.3 催化剂的电化学表征 | 第31-32页 |
| 3.3.1 循环伏安法 | 第31-32页 |
| 3.3.2 线性伏安法 | 第32页 |
| 3.3.3 计时电位法 | 第32页 |
| 3.4 炭黑的预处理 | 第32-34页 |
| 4 体相无序与有序PtNi/C催化剂的制备及表征 | 第34-52页 |
| 4.1 前言 | 第34页 |
| 4.2 实验部分 | 第34-38页 |
| 4.2.1 体相有序结构的PtNi/C催化剂的制备 | 第34-35页 |
| 4.2.2 体相无序和有序结构的PtNi/C催化剂的物理表征 | 第35页 |
| 4.2.3 体相无序和有序结构的PtNi/C催化剂的电催化析氢测试 | 第35-38页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第38-49页 |
| 4.3.1 催化剂XRD分析 | 第38页 |
| 4.3.2 催化剂TEM分析 | 第38-40页 |
| 4.3.3 催化剂EDS分析 | 第40-41页 |
| 4.3.4 催化剂XPS分析 | 第41-43页 |
| 4.3.5 体相无序与有序结构PtNi/C对HER的电化学分析 | 第43-44页 |
| 4.3.6 电化学活性面积测试 | 第44-47页 |
| 4.3.7 催化剂稳定性测试 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-52页 |
| 5 Pd/CeO_2/C催化剂的制备及表征 | 第52-68页 |
| 5.1 引言 | 第52-53页 |
| 5.2 实验部分 | 第53-54页 |
| 5.2.1 催化剂的制备 | 第53-54页 |
| 5.2.2 催化剂的物理表征和电催化析氢测试 | 第54页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第54-65页 |
| 5.3.1 三种不同金属含量催化剂SEM、EDS、XRD分析 | 第54-57页 |
| 5.3.2 三种不同金属含量催化剂的电化学分析 | 第57-58页 |
| 5.3.3 Pd/CeO_2/C系列催化剂XRD分析 | 第58-59页 |
| 5.3.4 Pd/CeO_2/C催化剂BET分析 | 第59-60页 |
| 5.3.5 Pd/CeO_2/C催化剂元素mapping分析 | 第60页 |
| 5.3.6 Pd/CeO_2/C系列催化剂XPS分析 | 第60-62页 |
| 5.3.7 Pd/CeO_2/C催化剂元素HR-TEM分析 | 第62-63页 |
| 5.3.8 Pd/CeO_2/C系列催化剂对HER的电化学分析 | 第63-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-68页 |
| 6 Pd/CeO_2/C催化剂生产工艺概念设计 | 第68-74页 |
| 6.1 引言 | 第68页 |
| 6.2 市场分析及预测 | 第68-73页 |
| 6.2.1 国内外政策环境 | 第68-69页 |
| 6.2.2 市场需求分析 | 第69页 |
| 6.2.3 生产规模的确定准则 | 第69-70页 |
| 6.2.4 制备原理 | 第70页 |
| 6.2.5 工艺流程图 | 第70-72页 |
| 6.2.6 主要设备要求 | 第72页 |
| 6.2.7 主要设备考虑 | 第72-73页 |
| 6.3 本章小结 | 第73-74页 |
| 7 结论与展望 | 第74-78页 |
| 7.1 结论 | 第74-75页 |
| 7.2 展望 | 第75-78页 |
| 参考文献 | 第78-92页 |
| 作者简历 | 第92页 |
| 科研成果 | 第92页 |
