| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 PPCPs的简介 | 第11-15页 |
| 1.1.1 PPCPs的来源及赋存 | 第11-13页 |
| 1.1.2 PPCPs的迁移与转化 | 第13-14页 |
| 1.1.3 PPCPs的生态毒性 | 第14-15页 |
| 1.2 PPCPs的典型处理技术 | 第15-17页 |
| 1.2.1 生物处理技术 | 第15页 |
| 1.2.2 物理处理技术 | 第15-16页 |
| 1.2.3 生态处技术 | 第16页 |
| 1.2.4 化学处理技术 | 第16-17页 |
| 1.3 高级氧化技术 | 第17-19页 |
| 1.3.1 电离辐射法 | 第17页 |
| 1.3.2 电化学高级氧化法 | 第17-18页 |
| 1.3.3 基于Fenton系统的高级氧化法 | 第18页 |
| 1.3.4 基于UV的高级氧化法 | 第18-19页 |
| 1.4 研究意义与研究内容 | 第19-22页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第19-20页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第22-26页 |
| 2.1 实验材料 | 第22-24页 |
| 2.1.1 实验装置 | 第22页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.3 实验药品 | 第23-24页 |
| 2.2 实验方法 | 第24-26页 |
| 2.2.1 光照实验过程 | 第24页 |
| 2.2.2 目标PPCPs浓度的测定 | 第24页 |
| 2.2.3 消毒副产物三氯甲烷的测定 | 第24页 |
| 2.2.4 实际再生水水质参数的测定 | 第24-26页 |
| 第3章 UV/NaClO法降解SMX和CIP的研究 | 第26-46页 |
| 3.1 UV/NaClO法降解效果研究 | 第26-28页 |
| 3.2 UV/NaClO法降解SMX和CIP的影响因素 | 第28-37页 |
| 3.2.1 NaClO投加量 | 第28-30页 |
| 3.2.2 初始pH | 第30-32页 |
| 3.2.3 水中常见阴离子 | 第32-35页 |
| 3.2.4 腐殖酸 | 第35-37页 |
| 3.3 UV/NaClO法降解SMX和CIP过程中消毒副产物的生成研究 | 第37-41页 |
| 3.4 UV/NaClO法降解SMX和CIP过程的电能消耗计算 | 第41-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 UV/K_2S_2O_8法降解SMX和CIP的研究 | 第46-62页 |
| 4.1 UV/K_2S_2O_8法降解效果研究 | 第46-48页 |
| 4.2 UV/K_2S_2O_8法降解SMX和CIP的影响因素 | 第48-56页 |
| 4.2.1 K_2S_2O_8投加量 | 第48-50页 |
| 4.2.2 初始pH | 第50-52页 |
| 4.2.3 水中常见阴离子 | 第52-55页 |
| 4.2.4 腐殖酸 | 第55-56页 |
| 4.3 UV/K_2S_2O_8法降解SMX和CIP过程的电能消耗计算 | 第56-58页 |
| 4.4 UV/NaClO法与UV/K_2S_2O_8法的对比研究 | 第58-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 UV/NaClO和UV/K_2S_2O_8降解实际再生水中的SMX和CIP | 第62-71页 |
| 5.1 北京市W再生水厂 | 第62-65页 |
| 5.1.1 W再生水水厂概况及水质参数的测定 | 第62页 |
| 5.1.2 降解效果探讨 | 第62-65页 |
| 5.2 北京市B再生水厂 | 第65-70页 |
| 5.2.1 B再生水水厂概况及水质参数的测定 | 第65-66页 |
| 5.2.2 降解效果探讨 | 第66-70页 |
| 5.3 本章小结 | 第70-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
