托卡马克边界杂质输运相关研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 引言 | 第13-20页 |
| 1.1 可控核聚变 | 第13-15页 |
| 1.2 托卡马克装置 | 第15-16页 |
| 1.3 托卡马克中的杂质 | 第16-17页 |
| 1.4 杂质输运研究的意义 | 第17-19页 |
| 1.5 本文的结构 | 第19-20页 |
| 第2章 边界杂质输运综述 | 第20-35页 |
| 2.1 托卡马克的偏滤器及刮削层 | 第20-23页 |
| 2.2 边界等离子体模型 | 第23-24页 |
| 2.3 边界杂质产生 | 第24-26页 |
| 2.4 边界杂质输运 | 第26-32页 |
| 2.4.1 垂直输运 | 第26-28页 |
| 2.4.2 平行输运 | 第28-32页 |
| 2.5 边界等离子体和杂质输运程序 | 第32-34页 |
| 2.6 本章小节 | 第34-35页 |
| 第3章 边界杂质输运程序OEDGE | 第35-52页 |
| 3.1 原子分子数据库ADAS | 第35-37页 |
| 3.2 网格生成程序 | 第37-39页 |
| 3.2.1 三角网格生成程序Triangle | 第37页 |
| 3.2.2 四角网格生成程序GRID | 第37-38页 |
| 3.2.3 四角网格DG-Carre程序 | 第38-39页 |
| 3.3 边界等离子体模型OSM | 第39-43页 |
| 3.4 中性粒子输运程序EIRENE | 第43-46页 |
| 3.5 杂质粒子输运程序DIVIMP | 第46-50页 |
| 3.5.1 杂质源 | 第47-48页 |
| 3.5.2 杂质电荷态改变 | 第48-49页 |
| 3.5.3 杂质输运 | 第49-50页 |
| 3.6 边界等离子体集成程序OEDGE | 第50-51页 |
| 3.7 本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 EAST偏滤器杂质注入的实验研究 | 第52-66页 |
| 4.1 EAST托卡马克装置 | 第53-55页 |
| 4.1.1 EAST装置介绍 | 第53-54页 |
| 4.1.2 EAST充气系统 | 第54-55页 |
| 4.2 实验主要诊断系统 | 第55-59页 |
| 4.2.1 快速EUV光谱仪系统 | 第55-57页 |
| 4.2.2 Filterscope光谱系统 | 第57-58页 |
| 4.2.3 偏滤器朗缪尔探针系统 | 第58-59页 |
| 4.3 EAST Ar注入实验 | 第59-61页 |
| 4.3.1 充气阀门的测试与标定 | 第59-60页 |
| 4.3.2 杂质注入实验 | 第60-61页 |
| 4.4 实验结果与讨论 | 第61-65页 |
| 4.4.1 Ar光谱分析 | 第61-63页 |
| 4.4.2 EAST偏滤器屏蔽效应分析 | 第63-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 EAST偏滤器杂质注入的模拟研究 | 第66-76页 |
| 5.1 背景等离子体的模拟 | 第66-71页 |
| 5.1.1 建立网格 | 第66-67页 |
| 5.1.2 等离子体边界条件 | 第67-70页 |
| 5.1.3 背景等离子体的生成和验证 | 第70-71页 |
| 5.2 Ar杂质的输运行为模拟 | 第71-74页 |
| 5.2.1 Ar杂质输运模拟参数设置 | 第71-72页 |
| 5.2.2 不同位置充Ar的芯部污染结果 | 第72-74页 |
| 5.3 模拟结果与讨论 | 第74页 |
| 5.4 本章小结 | 第74-76页 |
| 第6章 DⅢ-D钨环实验的模拟研究 | 第76-93页 |
| 6.1 DⅢ-D装置与主要边界诊断系统 | 第76-79页 |
| 6.1.1 DⅢ-D托卡马克装置 | 第76-77页 |
| 6.1.2 主要边界诊断系统 | 第77-79页 |
| 6.2 DⅢ-D钨环实验 | 第79-82页 |
| 6.2.1 OMP-DP假设 | 第80-81页 |
| 6.2.2 偏滤器不同位置的钨环实验 | 第81-82页 |
| 6.3 OEDGE模拟偏滤器不同位置钨环的输运 | 第82-88页 |
| 6.3.1 网格与输入参数 | 第83-84页 |
| 6.3.2 基于DTS实验数据的EXB漂移模拟 | 第84-86页 |
| 6.3.3 碳杂质环境下钨靶板的溅射模拟 | 第86-88页 |
| 6.4 模拟结果与讨论 | 第88-91页 |
| 6.4.1 模拟结果与实验比较 | 第88-89页 |
| 6.4.2 钨杂质在顶部的聚集 | 第89-90页 |
| 6.4.3 不同位置的偏滤器屏蔽系数比较 | 第90-91页 |
| 6.5 本章小结 | 第91-93页 |
| 第7章 本文总结及展望 | 第93-96页 |
| 7.1 全文工作总结 | 第93-94页 |
| 7.2 本文创新点 | 第94页 |
| 7.3 工作展望 | 第94-96页 |
| 参考文献 | 第96-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第106页 |
