| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 金刚石的结构及特点 | 第12-13页 |
| 1.3 纳米金刚石膜的定义 | 第13页 |
| 1.4 纳米金刚石膜的性能及应用 | 第13-15页 |
| 1.4.1 力学性能及应用 | 第14页 |
| 1.4.2 电学性能及应用 | 第14-15页 |
| 1.4.3 光学性能及应用 | 第15页 |
| 1.4.4 声学性能及应用 | 第15页 |
| 1.5 纳米金刚石膜的制备方法 | 第15-18页 |
| 1.5.1 热丝化学气相沉积法 | 第16页 |
| 1.5.2 微波等离子体化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 1.5.3 直流等离子体喷射法 | 第17-18页 |
| 1.6 纳米金刚石膜的研究进展 | 第18-20页 |
| 1.7 本工作的意义和主要研究内容 | 第20-23页 |
| 第2章 实验方法及表征手段 | 第23-31页 |
| 2.1 实验设备介绍 | 第23-24页 |
| 2.2 实验过程 | 第24-26页 |
| 2.2.1 衬底预处理 | 第24页 |
| 2.2.2 热丝预碳化 | 第24-25页 |
| 2.2.3 形核与生长 | 第25-26页 |
| 2.3 合成参数对纳米金刚石膜形核和生长的影响 | 第26-29页 |
| 2.3.1 反应气压 | 第26-27页 |
| 2.3.2 碳源浓度 | 第27页 |
| 2.3.3 衬底偏压 | 第27-28页 |
| 2.3.4 衬底温度 | 第28-29页 |
| 2.4 纳米金刚石膜的表征手段 | 第29-31页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜 | 第29页 |
| 2.4.2 X射线衍射 | 第29页 |
| 2.4.3 拉曼散射谱 | 第29-31页 |
| 第3章 H_2/CH_3COCH_3体系制备纳米金刚石膜 | 第31-39页 |
| 3.1 碳源浓度对制备纳米金刚石膜的影响 | 第31-34页 |
| 3.2 衬底温度对制备纳米金刚石膜的影响 | 第34-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-39页 |
| 第4章 Ar/H_2/CH_3COCH_3体系制备纳米金刚石膜 | 第39-79页 |
| 4.1 Ar浓度对制备纳米金刚石膜的影响 | 第39-52页 |
| 4.2 反应气压对制备纳米金刚石膜的影响 | 第52-60页 |
| 4.3 碳源浓度对制备纳米金刚石膜的影响 | 第60-64页 |
| 4.4 衬底温度对制备纳米金刚石膜的影响 | 第64-75页 |
| 4.5 本章小结 | 第75-79页 |
| 第5章 HFCVD等离子体的光谱诊断 | 第79-88页 |
| 5.1 诊断系统介绍 | 第79-80页 |
| 5.2 光谱诊断分析 | 第80-85页 |
| 5.3 本章小结 | 第85-88页 |
| 第6章 结论与展望 | 第88-92页 |
| 6.1 结论 | 第88-89页 |
| 6.2 展望 | 第89-92页 |
| 参考文献 | 第92-98页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100页 |