| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 课题背景 | 第11页 |
| 1.2 钛及钛合金 | 第11-13页 |
| 1.1.1 钛合金及其应用 | 第11-12页 |
| 1.1.2 钛合金的表面处理 | 第12-13页 |
| 1.3 钛合金的等离子电解氧化技术 | 第13-21页 |
| 1.3.1 等离子电解氧化技术及其发展 | 第13页 |
| 1.3.2 等离子电解氧化技术的基本原理 | 第13-16页 |
| 1.3.3 等离子电解氧化技术的优缺点 | 第16页 |
| 1.3.4 等离子电解氧化技术的研究现状 | 第16-20页 |
| 1.3.5 钛合金等离子电解氧化的研究现状 | 第20-21页 |
| 1.4 钛合金与锆合金等离子电解氧化技术对比 | 第21-22页 |
| 1.5 本课题研究的内容及意义 | 第22-24页 |
| 1.5.2 本文研究目的和内容 | 第23-24页 |
| 第2章 实验设备与实验方法 | 第24-28页 |
| 2.1 实验条件 | 第24页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第24页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第24页 |
| 2.2 等离子电解氧化膜层的制备 | 第24-25页 |
| 2.2.1 试样的制备 | 第24页 |
| 2.2.2 实验装置及实验方法 | 第24-25页 |
| 2.3 测试方法 | 第25-28页 |
| 2.3.1 等离子电解氧化过程火花放电图像 | 第25页 |
| 2.3.2 电流电压波形 | 第25-26页 |
| 2.3.3 膜层厚度的测量 | 第26页 |
| 2.3.4 等离子电解氧化膜层的微观形貌分析 | 第26页 |
| 2.3.5 显微硬度测试 | 第26页 |
| 2.3.6 物相分析 | 第26页 |
| 2.3.7 纳米压痕测试 | 第26页 |
| 2.3.8 摩擦实验 | 第26-27页 |
| 2.3.9 磨痕分析 | 第27页 |
| 2.3.10 电化学测试 | 第27-28页 |
| 第3章 Ti–6Al–4V 钛合金在恒压条件下的膜层性能 | 第28-46页 |
| 3.1 恒压模式下电压、电流波形 | 第28-29页 |
| 3.2 等离子电解氧化火花放电 | 第29-30页 |
| 3.3 膜层厚度和生长速度 | 第30-32页 |
| 3.4 膜层的微观形貌 | 第32-35页 |
| 3.5 膜层的成分 | 第35-37页 |
| 3.6 电化学测试 | 第37-39页 |
| 3.7 膜层的摩擦性能 | 第39-43页 |
| 3.8 膜层的显微硬度 | 第43-44页 |
| 3.9 小结 | 第44-46页 |
| 第4章 Ti–6Al–4V 钛合金在恒流条件下的膜层性能分析 | 第46-61页 |
| 4.1 恒流模式下电流电压变化规律及膜层生长特点 | 第46-49页 |
| 4.1.1 恒流模式下电流电压变化规律 | 第46-47页 |
| 4.1.2 恒流模式下膜层的生长特点 | 第47-49页 |
| 4.2 恒流膜层形貌及元素成分 | 第49-50页 |
| 4.3 膜层的耐蚀性能 | 第50-51页 |
| 4.4 膜层耐磨性能与 X 射线衍射分析 | 第51-55页 |
| 4.5 膜层纳米压痕测试 | 第55-57页 |
| 4.6 电解液浓度对膜层厚度的影响 | 第57-58页 |
| 4.7 恒流模式优化 | 第58-59页 |
| 4.8 小结 | 第59-61页 |
| 第5章 钛合金、锆合金等离子电解氧化的异同 | 第61-73页 |
| 5.1 钛合金、锆合金恒流条件下的电压变化 | 第61-62页 |
| 5.2 钛合金、锆合金膜层生长速率与效率 | 第62-64页 |
| 5.3 锆合金膜层形貌与摩擦性能 | 第64-67页 |
| 5.3.1 锆合金膜层形貌 | 第64-65页 |
| 5.3.2 钛合金、锆合金膜层摩擦性能比较 | 第65-67页 |
| 5.4 钛合金、锆合金在不同占空比条件下的等离子电解氧化现象 | 第67-71页 |
| 5.5 小结 | 第71-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 附录 A 攻读硕士学位期间所发表的学术论文目录 | 第81页 |
