| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-14页 |
| 1.2 流动聚焦的分类 | 第14-23页 |
| 1.2.1 单轴流动聚焦 | 第14-18页 |
| 1.2.2 电流动聚焦 | 第18-19页 |
| 1.2.3 同轴流动聚焦 | 第19-20页 |
| 1.2.4 多轴流动聚焦 | 第20-21页 |
| 1.2.5 微流控流动聚焦 | 第21-23页 |
| 1.3 稳定性研究进展 | 第23-26页 |
| 1.3.1 射流的稳定性研究 | 第23-26页 |
| 1.3.2 流动聚焦中的稳定性研究 | 第26页 |
| 1.4 本文的主要工作 | 第26-29页 |
| 第二章 复合流动聚焦实验 | 第29-47页 |
| 2.1 实验装置 | 第29-34页 |
| 2.1.1 同轴针头的设计 | 第29-31页 |
| 2.1.2 核心装置 | 第31-32页 |
| 2.1.3 实验装置系统 | 第32-34页 |
| 2.2 试剂及其物理属性的测量 | 第34-36页 |
| 2.2.1 表面张力系数的测量 | 第34-35页 |
| 2.2.2 流体动力粘度的测量 | 第35-36页 |
| 2.2.3 电导率和密度的测量 | 第36页 |
| 2.3 实验结果 | 第36-45页 |
| 2.3.1 锥形 | 第38-41页 |
| 2.3.2 射流 | 第41-44页 |
| 2.3.3 液滴 | 第44-45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第三章 电场作用下“液-气”复合射流的稳定性分析 | 第47-75页 |
| 3.1 物理模型 | 第47-49页 |
| 3.2 控制方程和边界条件 | 第49-52页 |
| 3.3 基本流场和电场 | 第52-55页 |
| 3.4 线性稳定性分析 | 第55-61页 |
| 3.4.1 扰动电场的解 | 第55-57页 |
| 3.4.2 无粘模型的解析色散关系 | 第57-59页 |
| 3.4.3 有粘模型的特征方程 | 第59-61页 |
| 3.5 数值计算方法 | 第61-66页 |
| 3.5.1 坐标变换 | 第62页 |
| 3.5.2 有粘模型的色散关系 | 第62-66页 |
| 3.6 参数的影响 | 第66-72页 |
| 3.6.1 周向波数的影响 | 第66-67页 |
| 3.6.2 界面处的粘性剪切的影响 | 第67-68页 |
| 3.6.3 电场强度与初始自由电荷密度的影响 | 第68-70页 |
| 3.6.4 粘性的影响 | 第70-71页 |
| 3.6.5 表面张力的影响 | 第71-72页 |
| 3.6.6 驱动气体惯性的影响 | 第72页 |
| 3.6.7 电导率与电容率比的影响 | 第72页 |
| 3.7 最不稳定扰动波长与实验比较 | 第72-74页 |
| 3.8 本章小结 | 第74-75页 |
| 第四章 三相流体复合射流的稳定性分析 | 第75-95页 |
| 4.1 理论模型 | 第75-78页 |
| 4.1.1 物理模型 | 第75-76页 |
| 4.1.2 控制方程和边界条件 | 第76-77页 |
| 4.1.3 基本速度型 | 第77-78页 |
| 4.2 线性稳定性分析 | 第78-82页 |
| 4.2.1 无粘模型的解析色散关系 | 第78-80页 |
| 4.2.2 有粘模型的特征方程 | 第80-82页 |
| 4.3 数值计算方法 | 第82-84页 |
| 4.3.1 有粘模型的色散关系 | 第82-83页 |
| 4.3.2 程序验证 | 第83-84页 |
| 4.4 计算结果 | 第84-93页 |
| 4.4.1 不稳定模 | 第84-86页 |
| 4.4.2 界面张力的影响 | 第86-87页 |
| 4.4.3 粘性的影响 | 第87-88页 |
| 4.4.4 剪切力的影响 | 第88-90页 |
| 4.4.5 轴对称与非轴对称模式间的转换 | 第90-91页 |
| 4.4.6 内外层界面间的耦合关系 | 第91-93页 |
| 4.5 绝对/对流不稳定性 | 第93-94页 |
| 4.6 本章小结 | 第94-95页 |
| 第五章 复合流动聚焦的应用：可激发微泡的制备和激发 | 第95-107页 |
| 5.1 试剂与设备 | 第96页 |
| 5.2 溶液配制 | 第96-98页 |
| 5.3 SRMs的制备和粒径控制 | 第98-101页 |
| 5.3.1 SRMs的制备 | 第98-99页 |
| 5.3.2 SRMs的粒径控制 | 第99-101页 |
| 5.4 ODV实验及其理论模型 | 第101-105页 |
| 5.4.1 ODV平台和实验 | 第101-102页 |
| 5.4.2 ODV的理论模型 | 第102-105页 |
| 5.5 本章小结 | 第105-107页 |
| 第六章 总结与展望 | 第107-111页 |
| 6.1 工作总结 | 第107-109页 |
| 6.2 工作展望 | 第109-111页 |
| 参考文献 | 第111-123页 |
| 附录A 同轴射流中的透镜效应 | 第123-127页 |
| 附录B Chebyshev谱配置法简介 | 第127-131页 |
| 附录C 界面张力引起的不稳定性 | 第131-133页 |
| 致谢 | 第133-135页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第135-136页 |