中文摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 前言 | 第9-25页 |
1.1 概述 | 第9-13页 |
1.1.1 研究背景 | 第9-10页 |
1.1.2 光催化原理 | 第10-12页 |
1.1.3 半导体光催化分解水原理 | 第12-13页 |
1.2 光催化材料概述 | 第13-17页 |
1.2.1 常见光催化剂类型 | 第13-14页 |
1.2.2 含镧光催化材料 | 第14-15页 |
1.2.3 影响光催化剂性能的因素 | 第15-17页 |
1.2.3.1 半导体能带位置 | 第16页 |
1.2.3.2 晶体结构 | 第16页 |
1.2.3.3 晶格缺陷 | 第16-17页 |
1.2.3.4 晶粒尺寸 | 第17页 |
1.2.3.5 比表面积 | 第17页 |
1.3 光催化剂改性技术 | 第17-21页 |
1.3.1 表面光敏化 | 第17-18页 |
1.3.2 金属离子掺杂 | 第18页 |
1.3.3 非金属掺杂 | 第18页 |
1.3.4 助催化剂的负载 | 第18-20页 |
1.3.4.1 贵金属助催化剂 | 第19页 |
1.3.4.2 非贵金属助催化剂 | 第19-20页 |
1.3.5 半导体复合 | 第20-21页 |
1.3.6 外场耦合 | 第21页 |
1.3.7 载流子的捕获 | 第21页 |
1.4 光催化剂常见制备方法 | 第21-23页 |
1.4.1 固相法 | 第21-22页 |
1.4.2 气相法 | 第22页 |
1.4.3 液相法 | 第22-23页 |
1.5 论文立题依据 | 第23-25页 |
第二章 实验部分 | 第25-32页 |
2.1 实验试剂及仪器设备 | 第25-26页 |
2.1.1 实验试剂 | 第25-26页 |
2.1.2 实验仪器 | 第26页 |
2.2 实验内容 | 第26-32页 |
2.2.1 催化剂的制备 | 第26-29页 |
2.2.1.1 La_2Ti_2O_7的制备 | 第26-27页 |
2.2.1.2 MoS_2-La_2Ti_2O_7的制备 | 第27-28页 |
2.2.1.3 NiS-La_2Ti_2O_7的制备 | 第28-29页 |
2.2.2 光催化剂的表征 | 第29-31页 |
2.2.2.1 晶相结构 | 第29页 |
2.2.2.2 场发射扫描电镜 | 第29页 |
2.2.2.3 透射电镜 | 第29-30页 |
2.2.2.4 紫外-可见漫反射光谱 | 第30页 |
2.2.2.5 拉曼光谱 | 第30页 |
2.2.2.6 低温氮吸附 | 第30页 |
2.2.2.7 X射线光电子能谱 | 第30页 |
2.2.2.8 光电化学性能测试 | 第30-31页 |
2.2.3 光催化分解水制氢 | 第31-32页 |
第三章 MoS_2-La_2Ti_2O_7的制备、表征及光催化性能研究 | 第32-48页 |
3.1 不同复合量MoS_2-La_2Ti_2O_7样品的制备及性能 | 第32-35页 |
3.1.1 光解水产氢活性 | 第32-33页 |
3.1.2 晶相结构 | 第33-34页 |
3.1.3 光吸收性能 | 第34-35页 |
3.2 La_2Ti_2O_7-MoS_2样品的物性表征 | 第35-43页 |
3.2.1 Raman | 第35-36页 |
3.2.2 SEM | 第36-37页 |
3.2.3 TEM | 第37-39页 |
3.2.4 低温氮吸附 | 第39-40页 |
3.2.5 电化学性能 | 第40-43页 |
3.2.5.1 瞬态光电流 | 第40-41页 |
3.2.5.2 电化学阻抗 | 第41页 |
3.2.5.3 极化曲线 | 第41-42页 |
3.2.5.4 平带电势 | 第42-43页 |
3.3 MoS_2-La_2Ti_2O_7样品的稳定性 | 第43-45页 |
3.3.1 活性稳定性 | 第43页 |
3.3.2 结构稳定性 | 第43-45页 |
3.3.2.1 反应前后样品XRD和Raman | 第44页 |
3.3.2.2 反应前后样品X射线光电子能谱 | 第44-45页 |
3.4 可能的光催化分解水产氢机理 | 第45-47页 |
3.5 小结 | 第47-48页 |
第四章 NiS-La_2Ti_2O_7的制备、表征及光催化性能研究 | 第48-62页 |
4.1 不同NiS复合量NiS-La_2Ti_2O_7样品的制备及性能 | 第48-51页 |
4.1.1 光解水产氢活性 | 第48-49页 |
4.1.2 晶相结构 | 第49-50页 |
4.1.3 光吸收性能 | 第50-51页 |
4.2 NiS-La_2Ti_2O_7复合样品的物性表征 | 第51-56页 |
4.2.1 TEM | 第51-52页 |
4.2.2 低温氮吸附 | 第52-53页 |
4.2.3 X射线光电子能谱 | 第53-54页 |
4.2.4 电化学性能测试 | 第54-56页 |
4.2.4.1 电化学阻抗 | 第54-55页 |
4.2.4.2 极化曲线 | 第55页 |
4.2.4.3 平带电势 | 第55-56页 |
4.3 NiS-La_2Ti_2O_7样品的稳定性 | 第56-59页 |
4.3.1 活性稳定性 | 第56-57页 |
4.3.2 结构稳定性 | 第57-59页 |
4.3.2.1 反应前后样品XRD | 第57-58页 |
4.3.2.2 反应前后样品XPS | 第58-59页 |
4.4 可能的反应机理 | 第59-61页 |
4.5 小结 | 第61-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
个人简历 | 第71-72页 |
在读期间已发表和录用的论文 | 第72页 |