| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 熔盐和熔盐电解 | 第11-15页 |
| 1.2.1 熔盐简介 | 第11-12页 |
| 1.2.2 熔盐电解法 | 第12页 |
| 1.2.3 熔盐体系中的电位序 | 第12-14页 |
| 1.2.4 共电沉积 | 第14-15页 |
| 1.3 镁的应用及镁锰合金的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.3.1 镁的性质及应用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 镁锂合金添加锰元素的研究现状 | 第16页 |
| 1.3.3 电解沉积金属镁基合金的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.4 铝的应用及铝基合金的研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4.1 铝的性质及应用 | 第17-18页 |
| 1.4.2 电解沉积金属铝基合金的研究现状 | 第18页 |
| 1.5 本文研究意义和主要研究内容 | 第18-21页 |
| 1.5.1 本文研究意义 | 第18-19页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验部分 | 第21-29页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第21-22页 |
| 2.2 实验体系 | 第22-24页 |
| 2.2.1 熔盐体系 | 第22-23页 |
| 2.2.2 电解装置 | 第23页 |
| 2.2.3 三电极体系 | 第23-24页 |
| 2.3 电化学测试方法 | 第24-26页 |
| 2.3.1 循环伏安法 | 第24-25页 |
| 2.3.2 方波伏安法 | 第25页 |
| 2.3.3 计时电位法 | 第25-26页 |
| 2.3.4 开路电位法 | 第26页 |
| 2.4 电解合金样品分析 | 第26-27页 |
| 2.4.1 X射线衍射（XRD） | 第26页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第26-27页 |
| 2.4.3 X射线能谱分析法（EDS） | 第27页 |
| 2.5 实验流程 | 第27-28页 |
| 2.6 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 熔盐电解制备Mg–Li–Mn合金及其机理研究 | 第29-47页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 Mg(II)在LiCl–KCl熔盐体系中电化学行为研究 | 第29-36页 |
| 3.2.1 循环伏安 | 第29-31页 |
| 3.2.2 方波伏安 | 第31页 |
| 3.2.3 开路计时电位 | 第31-36页 |
| 3.3 LiCl–KCl–MgCl_2–MnO_2熔盐体系电化学行为的研究 | 第36-43页 |
| 3.3.1 循环伏安 | 第36-40页 |
| 3.3.2 方波伏安 | 第40页 |
| 3.3.3 开路计时电位 | 第40-41页 |
| 3.3.4 计时电位 | 第41-43页 |
| 3.4 共电沉积制备Mg–Li–Mn合金 | 第43-45页 |
| 3.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 熔盐电解制备Al–Li–Mn合金及其机理研究 | 第47-59页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 Al(III)在LiCl–KCl熔盐体系电化学行为的研究 | 第47-52页 |
| 4.2.1 循环伏安 | 第47-48页 |
| 4.2.2 方波伏安 | 第48-49页 |
| 4.2.3 开路计时电位 | 第49-52页 |
| 4.3 LiCl–KCl–AlCl_3–MnO_2熔盐体系电化学行为的研究 | 第52-56页 |
| 4.3.1 循环伏安 | 第52-53页 |
| 4.3.2 方波伏安 | 第53-54页 |
| 4.3.3 开路计时电位 | 第54-55页 |
| 4.3.4 计时电位 | 第55-56页 |
| 4.4 共电沉积制备Al–Li–Mn合金 | 第56-57页 |
| 4.5 本本章小结 | 第57-59页 |
| 第5章 熔盐电解制备Mg–Li–Al–Mn合金及其机理的研究 | 第59-67页 |
| 5.1 引言 | 第59页 |
| 5.2 LiCl–KCl–AlCl_3–MgCl_2–MnO_2熔盐体系电化学行为的研究 | 第59-63页 |
| 5.2.1 循环伏安 | 第59-61页 |
| 5.2.2 方波伏安 | 第61-62页 |
| 5.2.3 开路计时电位 | 第62-63页 |
| 5.2.4 计时电位 | 第63页 |
| 5.3 共电沉积制备Mg–Li–Al–Mn合金 | 第63-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
