| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 微弧氧化技术简介 | 第10-14页 |
| 1.1.1 微弧氧化技术的概念和基本原理 | 第10页 |
| 1.1.2 微弧氧化技术特点 | 第10-11页 |
| 1.1.3 微弧氧化技术的基本原理 | 第11-13页 |
| 1.1.4 微弧氧化的成膜过程 | 第13-14页 |
| 1.2 微弧氧化技术的发展历史现状及趋势 | 第14-17页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术的发展历史 | 第14-15页 |
| 1.2.2 国内外微弧氧化工艺的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.2.3 微弧氧化技术的应用前景和发展趋势 | 第16-17页 |
| 1.3 研究目的及其意义 | 第17-18页 |
| 1.4 研究内容及技术路线 | 第18页 |
| 1.5 本章小结 | 第18-20页 |
| 第二章 实验材料及方法 | 第20-27页 |
| 2.1 微弧氧化设备 | 第20-22页 |
| 2.2 实验材料 | 第22-24页 |
| 2.2.1 试样材料与制备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 电解液的选取和配制 | 第23-24页 |
| 2.3 预制膜制备 | 第24页 |
| 2.3.1 高温氧化膜制备 | 第24页 |
| 2.3.2 稀土转化膜制备 | 第24页 |
| 2.4 微弧氧化膜层性能测试方法 | 第24-26页 |
| 2.4.1 厚度测量 | 第24-25页 |
| 2.4.2 表面粗糙度的测量 | 第25页 |
| 2.4.3 硬度测试 | 第25页 |
| 2.4.4 表面形貌分析 | 第25页 |
| 2.4.5 膜层相组成检测 | 第25-26页 |
| 2.4.6 膜层EDS能谱分析 | 第26页 |
| 2.4.7 膜层耐腐蚀性能测试 | 第26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 电流密度模式对微弧氧化陶瓷层的影响 | 第27-42页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 恒电流密度模式对陶瓷层结构和性能的影响 | 第27-32页 |
| 3.2.1 实验条件 | 第27页 |
| 3.2.2 不同电流密度下微弧氧化电压与时间的关系 | 第27-28页 |
| 3.2.3 恒电流密度对膜层厚度、表面粗糙度和显微硬度的分析 | 第28-29页 |
| 3.2.4 恒电流密度对微弧氧化陶瓷膜的表面形貌及相组成的影响 | 第29-32页 |
| 3.3 阶梯式电流密度模式对陶瓷层结构和性能的影响 | 第32-39页 |
| 3.3.1 实验条件 | 第32-33页 |
| 3.3.2 阶梯式电流密度模式电压随时间的变化规律 | 第33-34页 |
| 3.3.3 阶梯式电流密度模式下对厚度、表面粗糙度和硬度的影响 | 第34-36页 |
| 3.3.4 阶梯式电流密度模式下表面形貌和相组成的影响 | 第36-39页 |
| 3.4 恒电流密度和阶梯式电流密度模式下耐腐蚀性影响 | 第39-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 稀土钇(Y)对微弧氧化进程和陶瓷层的影响 | 第42-54页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验条件 | 第42-43页 |
| 4.3 稀土Y对微弧氧化过程的影响 | 第43-47页 |
| 4.3.1 微弧氧化膜的形成过程 | 第43-45页 |
| 4.3.2 成膜过程中电压随时间的变化 | 第45-47页 |
| 4.4 稀土元素Y对微弧氧化陶瓷膜层性能的影响 | 第47-49页 |
| 4.4.1 Y(NO_3)_3浓度对膜层厚度的影响 | 第47页 |
| 4.4.2 Y(NO_3)_3浓度对膜层表面粗糙度的影响 | 第47页 |
| 4.4.3 Y(NO_3)_3浓度对膜层显微硬度的影响 | 第47-48页 |
| 4.4.4 Y(NO_3)_3浓度对膜层耐腐蚀性的影响 | 第48-49页 |
| 4.5 稀土Y对陶瓷膜显微结构影响和EDS表征 | 第49-52页 |
| 4.6 稀土Y元素在微弧氧化过程中的作用机理 | 第52-53页 |
| 4.7 本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 预制稀土Y膜对微弧氧化的影响 | 第54-65页 |
| 5.1 引言 | 第54页 |
| 5.2 实验条件 | 第54-55页 |
| 5.3 预制稀土膜层不同电流密度下的微弧氧化形貌和元素表征 | 第55-57页 |
| 5.3.1 不同电流密度下的膜层表面形貌 | 第55-56页 |
| 5.3.2 预制稀土转化膜不同电流密度微弧氧化膜元素组成 | 第56-57页 |
| 5.4 预制膜层对微弧氧化膜结构和性能的影响 | 第57-63页 |
| 5.4.1 微弧氧化电压随时间的变化曲线 | 第57-58页 |
| 5.4.2 预制膜层对陶瓷膜层厚度的影响 | 第58-59页 |
| 5.4.3 预制膜层对陶瓷层表面粗糙度和三维形貌的影响 | 第59-61页 |
| 5.4.4 预制膜层对氧化陶瓷膜层硬度的影响 | 第61页 |
| 5.4.5 预制膜层对陶瓷层表面形貌和xrd相组成的影响 | 第61-63页 |
| 5.5 预制膜层对微弧氧化过程能耗的影响 | 第63-64页 |
| 5.6 本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士期间参加课题和发表论文 | 第74页 |
