原子层沉积系统温度特性的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-17页 |
| 1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.2 原子层沉积原理介绍 | 第8-9页 |
| 1.3 温度窗口对原子层沉积的影响 | 第9-10页 |
| 1.4 原子层沉积设备分类 | 第10-11页 |
| 1.5 原子层沉积设备的温度控制方式 | 第11-15页 |
| 1.6 课题的意义及论文主要工作 | 第15-17页 |
| 2 系统温度控制原理及方法 | 第17-23页 |
| 2.1 系统传热学基础 | 第17-18页 |
| 2.2 原子层沉积系统中传热分析 | 第18-19页 |
| 2.3 设计分析软件介绍 | 第19页 |
| 2.4 温度控制系统介绍 | 第19-22页 |
| 2.5 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 时间隔离原子层沉积设备温度特性分析 | 第23-43页 |
| 3.1 时间隔离原子层沉积腔体介绍 | 第23-24页 |
| 3.2 接触式加热原子层沉积系统温度特性 | 第24-32页 |
| 3.3 辐射式加热原子层沉积系统温度特性 | 第32-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 4 空间隔离原子层系统温度特性 | 第43-58页 |
| 4.1 空间隔离原子沉积平台设计 | 第43-46页 |
| 4.2 气流对基片温度均匀性的影响 | 第46-48页 |
| 4.3 系统温度稳定性分析 | 第48-52页 |
| 4.4 实验结果及分析 | 第52-57页 |
| 4.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 5 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 全文总结 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 附录1攻读硕士学位期间发表的论文与专利 | 第65页 |
