氧化锌薄膜晶体管制备工艺及性能解析
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-13页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 薄膜晶体管的研究现状 | 第11页 |
| 1.3 存在的主要问题 | 第11-12页 |
| 1.4 本课题的主要工作 | 第12-13页 |
| 第2章 氧化锌薄膜的制备与表征 | 第13-27页 |
| 2.1 氧化锌的晶体结构 | 第13-14页 |
| 2.2 氧化锌薄膜的特性 | 第14-16页 |
| 2.2.1 氧化锌薄膜的光电特性 | 第15页 |
| 2.2.2 氧化锌薄膜的压电特性 | 第15页 |
| 2.2.3 氧化锌薄膜的气敏特性 | 第15-16页 |
| 2.3 氧化锌薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 2.3.1 分子束外延 | 第16页 |
| 2.3.2 溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| 2.3.3 射频磁控溅射 | 第17-18页 |
| 2.4 氧化锌薄膜的制备过程 | 第18-21页 |
| 2.4.1 衬底玻璃的清洗 | 第18-19页 |
| 2.4.2 ZnO薄膜的制备工艺 | 第19-21页 |
| 2.5 氧化锌薄膜的表征 | 第21-26页 |
| 2.5.1 原子力显微镜分析表面形貌 | 第21-25页 |
| 2.5.2 台阶仪测膜厚 | 第25-26页 |
| 2.6 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 薄膜晶体管整流特性 | 第27-33页 |
| 3.1 金属-半导体接触的整流特性 | 第27-30页 |
| 3.2 金属-半导体接触的非整流特性 | 第30-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第4章 垂直构型氧化锌薄膜器件工艺参数与性能 | 第33-49页 |
| 4.1 器件的测试方法 | 第33-34页 |
| 4.2 氧化锌肖特基二极管的制备及分析 | 第34-37页 |
| 4.3 氧化锌薄膜晶体管性能测试及分析 | 第37-38页 |
| 4.4 工艺参数对晶体管性能的影响 | 第38-47页 |
| 4.4.1 衬底温度对晶体管性能影响 | 第38-41页 |
| 4.4.2 溅射时间对晶体管性能影响 | 第41-42页 |
| 4.4.3 晶体管跨导计算 | 第42-43页 |
| 4.4.4 晶体管输出电阻 | 第43页 |
| 4.4.5 晶体管电压放大倍数 | 第43-44页 |
| 4.4.6 阈值电压 | 第44-45页 |
| 4.4.7 隧穿电流-电压分析 | 第45-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
