| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 KDP晶体简介 | 第11-12页 |
| 1.3 理论基础 | 第12-18页 |
| 1.3.1 相变条件 | 第12-14页 |
| 1.3.2 相变过程 | 第14-15页 |
| 1.3.3 均匀成核机制 | 第15-16页 |
| 1.3.4 奇异面台阶动力学理论 | 第16-18页 |
| 1.4 KDP晶体生长方法 | 第18-23页 |
| 1.4.1 传统的Z切片生长方法 | 第18-19页 |
| 1.4.2 点籽晶快速生长法 | 第19-20页 |
| 1.4.3 降温法与循环流动法 | 第20-22页 |
| 1.4.4 KDP晶体其它生长方式 | 第22-23页 |
| 1.5 KDP晶体薄表面层生长研究现状及研究意义 | 第23-25页 |
| 1.5.1 KDP晶体薄表面层生长研究现状 | 第23-24页 |
| 1.5.2 薄表面层生长研究意义 | 第24-25页 |
| 1.6 本课题研究的内容及特色 | 第25-26页 |
| 2 KDP晶体生长实验 | 第26-36页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 实验设备及方法 | 第26-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-35页 |
| 2.3.1 制备籽晶 | 第27-28页 |
| 2.3.2 静止条件下生长KDP晶体 | 第28-29页 |
| 2.3.3 转晶法生长KDP晶体 | 第29-31页 |
| 2.3.4 使用托盘生长KDP晶体 | 第31-33页 |
| 2.3.5 生长KDP晶体经验总结 | 第33-35页 |
| 2.4 本章小节 | 第35-36页 |
| 3 KDP晶体非显露面与薄表面层生长实验 | 第36-50页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 实验设备及方法 | 第36-38页 |
| 3.2.1 实验设备 | 第36-37页 |
| 3.2.2 实验方法、步骤 | 第37-38页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第38-48页 |
| 3.3.1 Z切片分段实验 | 第38-41页 |
| 3.3.2 三角形Z切片生长实验 | 第41-43页 |
| 3.3.3 浮力对流对Z切片薄表面层生长的影响 | 第43-45页 |
| 3.3.4 存在其他非显露面的KDP晶体薄表面层生长实验 | 第45-47页 |
| 3.3.5 KDP晶体非显露面“薄表面层化”现象 | 第47-48页 |
| 3.4 本章总结 | 第48-50页 |
| 4 KDP晶体显露面围成的凹多面体薄表面层生长研究 | 第50-63页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 切割方式介绍 | 第50-52页 |
| 4.3 实验方法及步骤 | 第52页 |
| 4.4 结果与讨论 | 第52-61页 |
| 4.4.1 显露面内的凹角薄表面层生长实验 | 第52-54页 |
| 4.4.2 完整的显露面薄表面层生长实验 | 第54-57页 |
| 4.4.3“体积最小凸多面体”方法 | 第57页 |
| 4.4.4 棱边处的“过饱和度优势”引发薄表面层生长 | 第57-60页 |
| 4.4.5 薄表面层临界厚度计算 | 第60-61页 |
| 4.5 本章总结 | 第61-63页 |
| 5 结论与展望 | 第63-65页 |
| 5.1 主要结论 | 第63-64页 |
| 5.2 课题展望 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 附录 | 第69页 |
| A作者攻读硕士学位期间完成的学术论文 | 第69页 |
| B作者攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第69页 |
