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离子液体电沉积铜铟镓硒薄膜的研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第10-25页
    1.1 课题研究的目的和意义第10-11页
    1.2 CIGS薄膜太阳能电池简介第11-13页
    1.3 CIGS薄膜研究现状第13-24页
        1.3.1 CIGS的结构第13-15页
        1.3.2 CIGS薄膜的制备方法第15-17页
        1.3.3 电沉积法制备CIGS薄膜的研究现状第17-24页
    1.4 主要研究内容第24-25页
第2章 实验材料与方法第25-30页
    2.1 实验药品和仪器第25-26页
        2.1.1 实验药品第25页
        2.1.2 实验仪器第25-26页
        2.1.3 实验装置第26页
        2.1.4 离子液体的制备第26页
    2.2 电沉积与电化学测试方法第26-27页
        2.2.1 恒电势沉积第26-27页
        2.2.2 循环伏安测试(CV)第27页
    2.3 表征方法第27-30页
        2.3.1 感应耦合等离子体(ICP)第27-28页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第28-29页
        2.3.3 X射线衍射分析(XRD)第29-30页
第3章 一步电沉积法制备CIGS薄膜的工艺研究第30-41页
    3.1 CIGS薄膜制备工艺研究第30-37页
        3.1.1 金属In的电沉积第30-31页
        3.1.2 金属Ga的电沉积第31-32页
        3.1.3 Cu-In的电沉积第32-33页
        3.1.4 Cu-In-Ga的电沉积第33-34页
        3.1.5 Cu-In-Se的电沉积第34页
        3.1.6 Cu-In-Ga-Se的电沉积第34-37页
    3.2 提高镀层中Se含量的措施第37-39页
        3.2.1 电沉积方式的改变第37-38页
        3.2.2 其它措施第38-39页
    3.3 本章小结第39-41页
第4章 CIGS薄膜组成优化的工艺研究第41-52页
    4.1 连续沉积对镀层组成的影响第41-43页
        4.1.1 重现性实验第41-42页
        4.1.2 沉积次数对镀层组成的影响第42-43页
    4.2 沉积工艺对镀层组成的影响第43-46页
        4.2.1 镀液温度对镀层组成的影响第43-44页
        4.2.2 沉积电势对镀层组成的影响第44-46页
    4.3 镀液组成对镀层组成的影响第46-48页
        4.3.1 InCl_3浓度对镀层组成的影响第46页
        4.3.2 CuCl_2浓度对镀层组成的影响第46-47页
        4.3.3 GaCl_3浓度对镀层组成的影响第47页
        4.3.4 SeCl_4浓度对镀层组成的影响第47-48页
    4.4 退火对镀层的影响第48-50页
        4.4.1 退火对镀层表面形貌的影响第48页
        4.4.2 退火对镀层组成的影响第48-49页
        4.4.3 退火对镀层物相的影响第49-50页
    4.5 本章小结第50-52页
第5章 CIGS薄膜电沉积行为的研究第52-63页
    5.1 离子液体的电化学窗口第52-53页
    5.2 一元CuCl_2、InCl_3、GaCl_3、SeCl_4体系循环伏安行为第53-54页
    5.3 二元Cu-Se、In-Se、Ga-Se体系循环伏安行为第54-59页
    5.4 三元Cu-In-Se体系循环伏安行为第59-61页
    5.5 四元Cu-In-Ga-Se体系循环伏安行为第61-62页
    5.6 本章小结第62-63页
结论第63-65页
参考文献第65-73页
致谢第73页

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