| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第13-35页 |
| 1.1 二氧化钛介绍 | 第13-22页 |
| 1.1.1 二氧化钛的应用及研究历史 | 第13-15页 |
| 1.1.2 二氧化钛基本信息 | 第15-17页 |
| 1.1.3 二氧化钛表面性质 | 第17-19页 |
| 1.1.4 水分子在二氧化钛表面的吸附过程 | 第19-21页 |
| 1.1.5 氧气在缺陷二氧化钛晶面的吸附行为 | 第21-22页 |
| 1.2 砷介绍 | 第22-27页 |
| 1.2.1 砷的基本性质及对人类健康的影响 | 第22-24页 |
| 1.2.2 砷污染及处理方法 | 第24-27页 |
| 1.3 二氧化钛处理砷污染 | 第27-33页 |
| 1.3.1 二氧化钛吸附砷机理 | 第27-28页 |
| 1.3.2 二氧化钛光催化氧化砷 | 第28-32页 |
| 1.3.3 负载型二氧化钛光催化氧化As(Ⅲ) | 第32-33页 |
| 1.4 选题背景、研究内容和目的意义 | 第33-35页 |
| 1.4.1 选题背景 | 第33-34页 |
| 1.4.2 研究内容和目的意义 | 第34-35页 |
| 第二章 砷在 3D-TiO_2表面的吸附行为 | 第35-65页 |
| 前言 | 第35页 |
| 2.1 实验仪器与试剂 | 第35-37页 |
| 2.1.1 实验所用仪器设备 | 第35页 |
| 2.1.2 实验所用试剂 | 第35-36页 |
| 2.1.3 As(Ⅲ)与As(V)标准使用液配制 | 第36-37页 |
| 2.2 实验方法 | 第37-40页 |
| 2.2.1 As检测 | 第37页 |
| 2.2.2 制备 3D-TiO_2 | 第37-38页 |
| 2.2.3 pH值对吸附的影响 | 第38页 |
| 2.2.4 3D-TiO_2的吸附动力学 | 第38页 |
| 2.2.5 3D-TiO_2投入量对吸附的影响 | 第38-39页 |
| 2.2.6 砷初始浓度对吸附的影响 | 第39页 |
| 2.2.7 砷与吸附剂的表面作用方式表征 | 第39-40页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第40-61页 |
| 2.3.1 最佳吸附pH值 | 第40-45页 |
| 2.3.2 吸附动力学 | 第45-51页 |
| 2.3.3 吸附剂浓度对吸附过程的影响 | 第51-54页 |
| 2.3.4 吸附等温线 | 第54-58页 |
| 2.3.5 3D-TiO_2的深度处理能力 | 第58-60页 |
| 2.3.6 As与 3D-TiO_2的结合方式 | 第60-61页 |
| 2.4 吸附机理模型 | 第61-64页 |
| 2.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 第三章 3D-TiO_2光催化氧化As(Ⅲ) | 第65-88页 |
| 前言 | 第65页 |
| 3.1 实验仪器与试剂 | 第65-66页 |
| 3.1.1 实验仪器 | 第65-66页 |
| 3.1.2 实验试剂 | 第66页 |
| 3.2 实验方法 | 第66-69页 |
| 3.2.1 3D-TiO_2光响应性测定 | 第66-67页 |
| 3.2.2 3D-TiO_2+As(Ⅲ)光催化体系的光学稳定性 | 第67页 |
| 3.2.3 单位催化剂氧化能力 | 第67页 |
| 3.2.4 光催化动力学 | 第67页 |
| 3.2.5 光催化反应发生位置探索 | 第67-68页 |
| 3.2.6 氧气对光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第68页 |
| 3.2.7 捕获剂对吸附的影响 | 第68页 |
| 3.2.8 其他氧化As(Ⅲ)方式的影响 | 第68页 |
| 3.2.9 捕获剂单独存在时对As(Ⅲ)自氧化的影响 | 第68-69页 |
| 3.2.10 电子捕获剂对光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第69页 |
| 3.2.11 羟基捕获剂对光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第69页 |
| 3.2.12 空穴捕获剂对光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第69页 |
| 3.2.13 捕获剂间的制衡作用 | 第69页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第69-86页 |
| 3.3.1 催化剂光响应效率及光学稳定性 | 第69-72页 |
| 3.3.2 光催化氧化量子效率 | 第72-73页 |
| 3.3.3 光催化动力学 | 第73-75页 |
| 3.3.4 光催化反应发生位置 | 第75-76页 |
| 3.3.5 氧气对光催化过程的影响 | 第76-77页 |
| 3.3.6 捕获剂对 3D-TiO_2吸附As(Ⅲ)的影响 | 第77-80页 |
| 3.3.7 其他氧化方式对 3D-TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第80页 |
| 3.3.8 捕获剂在紫外光照下对As(Ⅲ)自氧化的影响 | 第80-81页 |
| 3.3.9 电子捕获剂对 3D-TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第81-82页 |
| 3.3.10 羟基捕获剂对 3D-TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第82-83页 |
| 3.3.11 空穴捕获剂对 3D-TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第83-85页 |
| 3.3.12 捕获剂间的制衡作用 | 第85-86页 |
| 3.4 3D-TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)机理 | 第86页 |
| 3.5 本章小结 | 第86-88页 |
| 第四章 锰氧化物对光催化的促进作用 | 第88-106页 |
| 前言 | 第88页 |
| 4.1 实验仪器及试剂 | 第88-89页 |
| 4.1.1 实验仪器 | 第88-89页 |
| 4.1.2 实验试剂 | 第89页 |
| 4.2 实验方法 | 第89-90页 |
| 4.2.1 Ti-Mn复合氧化物材料制备 | 第89-90页 |
| 4.2.2 吸附实验 | 第90页 |
| 4.2.3 表面化学环境分析 | 第90页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第90-101页 |
| 4.3.1 材料组成分析 | 第90-91页 |
| 4.3.2 微观结构分析 | 第91-93页 |
| 4.3.3 BET分析 | 第93-94页 |
| 4.3.4 Ti/Mn摩尔比对光促吸附的影响 | 第94-95页 |
| 4.3.5 光催化氧化活性 | 第95-96页 |
| 4.3.6 锰氧化物对As(Ⅲ)的光催化氧化过程促进机理研究 | 第96-100页 |
| 4.3.7 XPS表面分析 | 第100-101页 |
| 4.4 Ti-Mn复合材料光催化氧化As(Ⅲ)机理 | 第101-104页 |
| 4.5 本章小结 | 第104-106页 |
| 第五章 结论及创新点 | 第106-108页 |
| 5.1 结论 | 第106-107页 |
| 5.2 创新点 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-132页 |
| 发表论文和参加科研情况 | 第132-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
